[发明专利]用于金属和金属氧化物的结构化处理的抛光液和方法

权利要求书

1、抛光液，特别用于通过化学-机械抛光对金属氧化物和金属，尤其是元素周期表内8b组元素进行磨蚀和/或结构化处理，其中含有

a)水或一种水/醇混合物，

b)多晶金刚石粉，和

c)至少一种从氧化剂、络合剂、表面活性剂基团和有机基团中选择出的添加剂。

2、如权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述多晶金刚石粉的粒度小于约1μm。

3、如权利要求2所述的抛光液，其特征是，所述多晶金刚石粉的粒度在0.05至1μm之间，特别在0.1至1μm之间。

4、如权利要求1至3中任何一项所述的抛光液，其特征是，所述多晶金刚石粉在抛光液中的重量百分比为1至30％。

5、如权利要求1至4中任何一项所述的抛光液，其特征是，所述多晶金刚石粉是合成金刚石粉。

6、如权利要求1至5中任何一项所述的抛光液，其特征是，所述添加剂至少是一种氧化剂，从以下基团中选择：氧，臭氧(O₃)，过氧化氢(H₂O₂)，在酸性或碱性溶液中的过二硫酸盐，氯代氧化物如次氯酸盐、氯酸盐和高氯酸盐，溴-氧化合物，例如溴酸盐，碘-氧化合物，例如碘酸盐，锰-氧化合物，例如高锰酸盐，铬氧化合物，例如铬酸盐，铁(Ⅲ)化合物，例如Fe₂(SO₄),K₃Fe(CN)₆和Fe(A)₃，其中A=F、Cl、Br、J或(NO₃)，铈(Ⅳ)化合物，例如Ce(SO₄)₂和Ce(NO₃)₄，王水和铬硫酸，所述氧化剂可单独使用或联合使用。

7、如权利要求1至6中任可一项所述的抛光液，其特征是，所述添加剂至少是一种络合剂，从以下基团中选择：乙二胺四醋酸(EDTA)，含氮冠乙醚，柠檬酸，氯化配价体，溴化配价体，氰化配价体和基于膦配价体(PR₃，其中R是一个有机基)的金属有机配位体化合物。

8、如权利要求7所述的抛光液，其特征是，所述含氮冠乙醚是一种1,4,8,11-四氮环十四烷衍生物。

9、一种含有元素周期表内8b组金属的金属氧化层或金属层的平整化和/或结构化处理方法，包括以下步骤：

a)准备一个衬底，

b)涂敷含有元素周期表内8b组金属的金属氧化层或金属层，

c)准备一种含有多晶金刚石粉的抛光液，和

d)采用所述抛光液通过一个抛光步骤，对所述金属氧化层或金属层进行平整化和/或结构化处理。

10、如权利要求9所述的方法，其特征是，所述多晶金刚石粉的粒度小于约1μm。

11、如权利要求10所述的方法，其特征是，所述多晶金刚石粉的粒度在0.05至1μm之间。

12、如权利要求9至11中任何一项所述的方法，其特征是，所述多晶金刚石粉在抛光液中的重量百分比为1至30％。

13、如权利要求9至12中任何一项所述的方法，其特征是，所述多晶金刚石粉是合成金刚石粉。

14、如权利要求9至13中任何一项所述的方法，其特征是，所述抛光液中含有至少一种如权利要求6至8中任何一项所述的添加剂。