[发明专利]高分子树脂膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及能用于偏振片保护膜等的光学用透明膜、照片感光材料用支持体膜等的高分子树脂膜及其制造方法，更详细地说，涉及在膜表面涂布功能层时能涂布均匀的高分子树脂膜及其制造方法。

背景技术

一般用作光学用透明膜、照片感光材料用支持体膜等的膜，使用的是三醋酯纤维素膜等，这种三醋酯纤维素膜等是用溶液制膜法制造的。溶液制膜法是把有机溶剂中溶解的聚酯溶液从口模倾倒到支持体上的同时，由设置在口模傍的减压室把倾倒带状物(口模吐出口至支持体接着面间的液膜)紧靠在支持体上。作为这种溶液制膜法，例如，特公昭49-36946号公报中提案的液体组成物浇注法，为了防止空气伴入，设置带有两个吸引小室的减压室且使液体组成物流与辊紧靠，特公昭62-38133号公报及特公昭63-57222号公报中，提出了利用隔离壁处设置的2个真空带区能使端部液滴稳定的输送膜片均压装置，特开平5-86212号公报等中提出通过使用特定比例的易溶剂和难溶剂原液防止产生侧针的倾倒方法。

但是，上述现有技术中采用溶液制膜法制造的高分子树脂膜由于减压室内部的气柱振动、减压吸管的气柱振动、鼓风机振动传送的减压室振动等气压振动及机械振动导致振动干扰，倾倒带状物周期性振动，膜纵向产生微小的周期段状厚度不均。

特别是近年来液晶显示装置(以下称为LCD)的薄型化发展，要求各个部分都要薄膜化，偏振片用保护膜更要薄膜化，薄膜化使溶液制膜法的水平效果降低，明显表现出各种厚度不均。

以光用透明膜为例，虽然涂布有能使外层坚硬或防反射功能的抗性层，但由于支持体上厚度不均会导致涂布不均而降低光用膜的外观价值与功能，所以，LCD等质量上存在很大问题。

同样，在照片感光材料用支持体中乳剂涂布也存在同样的问题。

发明内容

本发明的目的在于解决上述问题，提供即使在溶液制膜法制造膜上涂布各种功能层也不会产生涂布不均的高分子树脂膜及其制造方法。

本发明的高分子树脂膜，在周期性纵向厚度不均的规定范围内，当把厚度不均间隔及厚度不均间的关系确定在规定范围时，即使对高分子树脂膜进行涂布，也能看到良好的外观质量。

即，本发明的高分子树脂膜是采用溶液制膜法制备的，其特征在于膜片纵向厚度不均间距a[cm]、厚度不均率d[％]满足下式(1)：

d≤0.46a³－0.91a²＋0.60a＋1.01    (1)

(但0.2＜a＜3)

本发明把倾倒带状物的伸缩率、倾倒速度及伸缩频率间的关系限定在规定区域时，即使对高分子树脂膜进行涂布也能表现出良好的外观质量。

本发明的高分子树脂膜制造方法是从口模中把溶解在有机溶剂中的高分子树脂溶液倾倒在支持体上来制造膜，其特征在于倾倒速度v[cm/s]、伸缩频率f[l/s]及伸缩率e[％]满足下式(3)：

e≤0.46(v/f)³－0.91(v/f)²＋0.60(v/f)＋1.01    (3)

(但0.2＜(v/f)＜3)

本发明针对溶液制膜法制造的膜在纵向上产生周期厚度不均现象，通过把不均间距与厚度不均率的适当关系设定在规定范围，即使对该膜进行涂布，也能得到良好的外观质量。

附图说明

图1表示厚度不均率与厚度不均间距关系，以及与涂布不均识认率关系的示图；

图2表示倾倒速度及伸缩频率关系，以及与涂布不均识认率关系的示图；

图3是本发明高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；

图4是本发明高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；

图5是本发明高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；

图6是本发明高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；

图7是本发明高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；

图8是本发明高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；

图9是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；

图10是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；

图11是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；

图12是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；

图13是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；

图14是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；