[发明专利]光信息介质及其制造、记录或重放方法以及检查方法有效

专利信息
申请号: 01124331.7 申请日: 2001-06-26
公开(公告)号: CN1338737A 公开(公告)日: 2002-03-06
发明(设计)人: 小卷壮;平田秀树;加藤达也 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/26
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈昕
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 信息 介质 及其 制造 记录 重放 方法 以及 检查
【权利要求书】:

1.一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质,

所述透光层由树脂构成,拉伸破坏强度为5~40Mpa,拉伸破坏伸长率为15~100%,拉伸弹性系数为40~1000Mpa。

2.根据权利要求1的光信息介质,所述透光层的厚度为30~200微米。

3.一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质,

在信息记录区域中,所述透光层在波长为630nm时的双折射率(绝对值)为20nm以下,波长为630nm时的双折射率的分布宽度在20nm以下。

4.一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质,

所述透光层的记录波长和重放波长的表面反射率为10%以下。

5.一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质,

用R表示记录或重放时的线速度的聚焦误差信号的剩余误差部分、用F表示聚焦灵敏度曲线的p-p值时,R/F为10%以下。

6一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质,

在把所述透光层表面的最大起伏作为Wt(单位nm)、把记录或重放时的线速度作为V(单位m/s)时,所述透光层表面上的记录或重放用激光的光斑直径在300微米以下的条件下,下式成立:

Wt≤1840e-0.04V

7.根据权利要求6的光信息介质,所述透光层由树脂构成的透光薄层和把该透光薄层粘接于支持基片侧的粘接层组成,所述粘接层包括紫外线固化型树脂的固化物,所述粘接层的平均厚度为0.5微米以上,小于5微米。

8.根据权利要求6或7的光信息介质中,所述透光层由树脂构成的透光薄层和把该透光薄层粘接于支持基片侧的粘接层组成。

所述透光薄层由聚碳酸酯、聚芳酯、环状聚烯烃之一构成,并且通过流延法制造。

9.根据权利更求3到8的任一项的光信息介质,在线速度为8m/s以上使用。

10.根据权利要求3到9的任一项的光信息介质,把物镜数值孔径作为NA、把记录或重放光的波长作为λ时,由满足λ/NA≤780nm的装置来进行记录或重放。

11.根据权利要求3到10的任一项的光信息介质,是权利要求1或2的光信息介质。

12.制造权利要求6到8的任一项的光信息介质的方法,

所述透光层由树脂构成的透光薄层和把该透光薄层粘接于支持基片侧的粘接层组成。所述粘接层含有紫外线固化型树脂的固化物,

在通过把紫外线照射到紫外线固化型树脂的涂层膜上固化它而形成所述粘接层时,紫外线照射能量密度为1000mW/cm2以下。

13.一种光信息介质的记录或重放方法,对于在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有波长630nm下的双折射率(绝对值)为20nm以下、波长630nm下的双折射率的分布宽度为20nm以下的透光层的光信息介质,通过透光层入射用于记录或重放的激光来进行记录或重放。

14.一种光信息介质的记录或重放方法,对于在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有记录波长和重放波长的表面反射率在10%以下的透光层的光信息介质,通过透光层入射用于记录或重放的激光来进行记录或重放。

15.一种检查光信息介质的方法,该光信息介质在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用,

选择用R表示记录或重放时的线速度的聚焦误差信号的剩余误差部分、用F表示聚焦灵敏度曲线的p-p值时、R/F为10%以下的光信息介质。

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