[发明专利]新的类黄酮及其在化妆和皮肤病学制剂中的应用无效
申请号: | 01125442.4 | 申请日: | 2001-07-04 |
公开(公告)号: | CN1335309A | 公开(公告)日: | 2002-02-13 |
发明(设计)人: | S·哈雷姆扎;F·普雷希特尔;T·哈贝克 | 申请(专利权)人: | BASF公司 |
主分类号: | C07D311/22 | 分类号: | C07D311/22;C07D405/06;C07D407/06;A61K7/42;A61K7/48;A61K31/352;A61P17/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 周慧敏 |
地址: | 联邦德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 类黄酮 及其 化妆 皮肤病 制剂 中的 应用 | ||
本发明涉及新的类黄酮、其制剂的制备方法、其在化妆和皮肤病学制剂中作为紫外线吸收剂和抗氧化剂的应用和这些制剂。
从天然来源并且通过合成我们已经知道了大量的类黄酮。在化妆和皮肤病学制剂中的应用在JP06016531中也已经做了描述。
但是,制剂关于UV-吸收作用的性质和抗氧化剂的作用仍然不完全令人满意。因此,本发明的目的是提供具有改善应用性能的新的类黄酮。
我们发现,这个目的通过本发明的具有式I的类黄酮达到了:式中R是式Ia或Ib的基团之一其中R1是氢或C1-C4-烷基、羟基、C1-C4-烷氧基、苯氧基或苄氧基,R2是氢或C1-C4-烷基,R3是氢、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或氰基,R4是氢或C1-C4-烷基或苯基,n是0或1,和Het是吡啶基、呋喃基或甲基吡咯基,条件是当基团R=Ia和n=0时,
R1-R3中至多有2个基团同时是氢原子。在这些新化合物中,优选的是n=1和/或具有杂环取代的R基团的那些化合物。
式I的类黄酮中可以通过各种合成路线得到,不过它们的共同特征是以2’-羟基苯乙酮为原料。在下面的这些路线的解释中,R1、R2、R3和R4的定义如前。方法A:黄烷酮路线
在这个合成路线中2’-羟基苯乙酮衍生物与苯甲醛衍生物在硼酸、二氧化硅和哌啶的催化作用下反应得到黄烷酮。然后在第二步反应中后者使用NBS/过氧化苯甲酰氧化以得到黄酮。方法B:Baker-Venkatamaran路线
从2’-羟基苯乙酮衍生物出发,先与芳基碳酰氯反应得到相关的酯。后者再用碱催化Baker-Venkatamaran重排反应进行重排得到1,3-二羰基化合物,它最后再用酸催化剂环化以得到黄酮。方法C:DMSO路线
这个合成路线主要是用于插烯增长的类黄酮的合成。为此,将肉桂醛衍生物与2’-羟基苯乙酮衍生物与碱催化剂进行反应以得到插烯增长的查耳酮。最后在DMSO中加入催化剂量的碘,通过加热进行氧化环化反应。方法D:甲基色酮路线
这个合成路线是用于若干插烯增长类黄酮的制备。这里,目的化合物是通过适当的醛与2-甲基色酮衍生物的碱催化醛醇缩合反应制备的。采用这种路线不能发生酮的反应。
上述合成路线的大多数可以不用较大量的合成预备作业进行。然而,对于5-羟基3-甲基取代的黄酮的合成,费时耗力的2’,6’-二羟基苯基·乙基酮的制备是需要的。在进行含羟基取代基的类黄酮的制备的情形中,用于暂时保护反应(如作为甲基醚)和用于羟基的释放反应的附加反应步骤是必须的。
本发明的类黄酮可以系统地概括为使用式II、式III和式IV的结构类型,各取代基具有上述的意义。表1—表3概括了示例性类黄酮的合成路线和光谱学数据。
表1
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