[发明专利]高光亮高耐腐蚀高耐磨纳米复合电镀层组合无效

专利信息
申请号: 01129149.4 申请日: 2001-12-04
公开(公告)号: CN1380446A 公开(公告)日: 2002-11-20
发明(设计)人: 李声泽;陈敬全 申请(专利权)人: 重庆阿波罗机电技术开发公司
主分类号: C25D5/14 分类号: C25D5/14;C25D15/00
代理公司: 重庆市恒信专利代理有限公司 代理人: 刘小红
地址: 400061 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 光亮 腐蚀 耐磨 纳米 复合 镀层 组合
【权利要求书】:

1、一种总厚度≤13μm高光亮高耐腐蚀高耐磨纳米复合电镀层组合,其特征为:电镀层组合为:暗镀/纳米复合镍/光亮镍/铬;其中,在电镀层组合的复合镀层中弥散有3-10%以α-Al2O3为主晶相的纳米复合氧化微粒;所述纳米复合氧化微粒中含有碱土金属,或/和过镀金属1~10%。

2、根据权利要求1所述的高光亮高耐腐蚀高耐磨纳米复合电镀层组合,其特征为:电镀层中,暗镀层厚为1.5-2.0μm,纳米复合镍层厚5-8μm,光亮镍层厚3-4μm,铬面层厚0.25-0.5μm。

3、根据权利要求1所述的高光亮高耐腐蚀高耐磨纳米复合电镀层组合,其特征为:在所述纳米复合氧化微粒中,含有的碱土金属包括镁或氧化镁,过镀金属包括镍或氧化镍。

4、一种制备高光亮高耐腐蚀高耐磨纳米复合电镀层组合的工艺,其特征在于:其复合电镀的工艺包括:在常规瓦特电解液中加入50-150g/L的α-Al2O3系复合纳米浆料,浆料中分散粒子的原晶粒度<100nm,最好为40nm-80nm,工艺中使用的电解液的组成及工艺条件如下:

硫酸镍                350-380g/L

硼  酸                40-45g/L

氯化钠                12-16g/L

α-Al2O3复合纳米浆  50-150g/L(固)

PH                    3.5-4.6

Dk                    3-4A/dm2

t℃                   55-65

纳米复合镀层厚度            5-8μm

工艺中,阳极用纯镍电极,空气搅拌,搅拌速度以浆液中全部粒子悬浮为度。

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