[发明专利]滴定、比色通用反应装置

说明书

技术领域：本发明涉及分析仪器，尤其涉及光度滴定分析装置和比色分析装置的技术创新。

背景技术：目前国内外有各种滴定仪如：电导滴定、射频滴定、库仑滴定、光度滴定等，其中以光度滴定不易受复杂样品组分的干扰和污染，应用范围最宽，在国际和国内标准中被广泛采用；而比色分析也是分析化学中的重要方法之一，对于常量、微量、痕量分析均有很高的灵敏度、准确度。而光度滴定和比色分析，均须在一个反应池中进行滴定或显色反应，并由光敏元件输出电压信号，只是根据不同的程序进行分析、计算以给出检测数据，因此将此两类分析的反应池通用化，一机两用，既有客观可能性，又具有技术、经济意义。但是现有的滴定分析及比色分析均存在显色反应较慢、分析速度较慢、不能适应高速自动化、在线分析的要求，因而促使人们提高显色溶液的反应温度到50～80℃甚至更高以加速显色，以致反应池壁附近温度达到100℃以上，而现有的滴定反应池或比色反应池两侧安装的单色光源及光敏元件所能耐受的温度在70℃以内，故大大限制了升温的范围及分析速度、准确度的提高。

发明内容：本发明所要解决的技术问题，是要提供一种既能用于滴定分析、又能用于比色分析，且易于实现自动化在线分析的反应装置。

为此，本发明的技术方案是：一种滴定、比色通用反应装置，是由相对两侧分别设有入射单色光源及光敏元件的反应池所构成，在其下部设有电磁搅拌器、进液口和排液口，其特征在于：所述的入射单色光源是经过入射光纤传导至反应池壁一侧，而所述的光敏元件是经过设在池壁相对一侧的出射光纤来接受反应池中的光信号。

所述的入射单色光源可以是：高亮度单色发光二极管、加滤光片的卤素灯、激光光源。

所述的反应池顶部设有可出蒸汽的上盖，其中下部还设有温度传感器、电控加热器，所述的进液口与电控注液器相连接，所述的排液口与电控蠕动泵相连接。

所述的光敏元件输出光电模拟信号，经模拟信号放大器放大后送模/数转换芯片转换为数字信号，再由单片机中央控制器进行数字处理、显示、打印；单片机中央控制器还根据设定程序切换滴定或比色分析模式、控制搅拌、升温、进液、排液、清洗。

由于采用了上述的结构改进，本发明具有如下优点：

光纤的居中传导使光敏元件与单色光源均可远离管壁处的加热元件和高温，而光纤传导光信号衰减极低，500℃的高温不会对光纤传导产生非线性干扰，故允许反应池中大大提高加热温度，尽可能地加速显色反应；光纤的采用还允许光敏元件与模拟信号放大电路、模/数转换电路等集成在一块电路板上，缩短了其间的电线连结并为电磁屏蔽提供了方便，而光纤在传导过程中不会受到外来电磁等各种干扰，因而大大提高了信噪比及结果的准确性；

此外，所述的各种电控设施，使本发明的分析装置很容易实现全自动快速分析、应用于在线分析，且只需在单片机中央控制器设定两种分析模式的程序，即可做到一机两用，将光度滴定与比色分析的反应池通用化，增加了分析仪器的适应性、灵活性、性价比；

本发明构思新颖、实施简便、成本低廉，具有广阔的市场前景。

附图说明：以下结合附图对本发明作出说明。

图1为本发明之滴定、比色通用反应装置的结构示意图。

图2为本发明之滴定、比色通用反应装置控制原理示意图。

具体实施方式：如图1所示：本发明之滴定、比色通用反应装置，其是由相对两侧分别设有入射单色光源1及光敏元件2的反应池3所构成，在其下部设有电磁搅拌器4、进液口5和排液口6，其特征在于：所述的入射单色光源1是经过入射光纤7传导至反应池壁一侧，而所述的光敏元件2是经过设在池壁相对一侧的出射光纤8来接受反应池3中的光信号。

所述的入射单色光源1可以是：高亮度单色发光二极管、加滤光片的卤素灯、激光光源。

所述的反应池3顶部设有带蒸汽出口3-2的上盖3-1，其中下部还设有温度传感器9、电控加热器10，所述的进液口5与电控注液器11相连接，所述的排液口6与电控蠕动泵12相连接。

如图2所示：单片机中央控制器15根据设定程序切换滴定或比色分析模式(其中来自各部件的箭头表示数据采集关系，指向各部件的箭头表示控制关系)，控制进液、搅拌、升温、开启入射单色光源1发出单色光，单色光经入射光纤7传导到反应池3外壁进入池中，经样液吸收后由出射光纤8传导到所述的光敏元件2，由光敏元件2输出光电模拟信号，经模拟信号放大器13放大后送模/数转换芯片14转换为数字信号，再由单片机中央控制器15进行数字处理、显示、打印，然后控制排液、清洗，进入下一轮分析循环。