[发明专利]用于EUV的多层反射镜、其波前光行差校正法及包含它的EUV光学系统

权利要求书

1.一种制造多层镜的方法，其中在反射镜的衬底表面形成有许多交替叠放的第一和第二材料层，并且第一和第二材料对于EUV辐射具有各自不同的折射率，用于降低从多层镜表面反射的EUV辐射的波前光行差的方法包括：

在该多层镜所用EUV波长下，测定透射过EUV光学系统的波前的轮廓，以获得表明目标区域的表面的图，该目标区域用于表面去除需要降低从表面反射的EUV光的波前光行差的多层膜的一或多层；并且

根据该图，去除指定区域中的一或多层表面层。

2.如权利要求1所述的方法，其中该测定步骤利用衍射光学元件进行。

3.如权利要求2所述的方法，其中该测定步骤通过由加工干涉测定法(shearing interferometry)、点衍射-干涉测定法、Foucalt测试、Ronchi测试和Hartmann测试组成的组中选择的技术实现。

4.一种制造多层镜的方法，其中在反射镜的衬底表面形成有许多交替的第一和第二材料层，并且该第一和第二材料对于EUV辐射具有各自不同的折射率，用于降低从多层镜表面反射的EUV辐射的波前光行差的方法包括：

将该多层镜放置在能透射该多层镜所用EUV波长的EUV辐射的EUV光学系统中；

在该多层镜所用EUV波长下，测定透射过EUV光学系统的波前的轮廓，以获得表明目标区域的表面的图，该目标区域用于表面去除需要降低从表面反射的EUV光的波前光行差的多层膜的一或多层；并且

根据该图，去除指定区域中的一或多层表面层。

5.如权利要求4所述的方法，其中该测定步骤利用衍射光学元件进行。

6.如权利要求5所述的方法，其中该测定步骤通过由加工干涉测定法(shearing interferometry)、点衍射-干涉测定法、Foucalt测试、Ronchi测试和Hartmann测试组成的组中选择的技术进行。

7.如权利要求4所述的方法，其中在EUV光学系统放置多个独立的多层镜。

8.一种制造用于EUV光学系统的多层镜的方法，包括：

在反射镜的衬底表面形成有许多交替叠放的第一和第二材料层；该第一和第二材料对于EUV辐射具有各自不同的折射率；

在该多层镜所用EUV波长下，测定透射过EUV光学系统的波前的轮廓，以获得表明目标区域的表面的图，该目标区域用于表面去除需要降低从表面反射的EUV光的波前光行差的多层膜的一或多层；并且

根据该图，去除指定区域中的一或多层表面层。

9.如权利要求8所述的方法，其中该形成步骤包括形成多组配对层，每组配对层包括一层含钼的材料和一层含硅的材料，该叠层中的层交替叠放。

10.如权利要求9所述的方法，其中各个配对层具有6到12纳米的周期。

11.如权利要求8所述的方法，其中该测定步骤利用衍射光学元件进行。

12.如权利要求11所述的方法，其中该测定步骤通过由加工干涉测定法(shearing interferometry)、点衍射-干涉测定法、Foucalt测试、Ronchi测试和Hartmann测试组成的组中选择的技术进行。

13.一种多层镜，由权利要求1所述的方法制造。

14.一种多层镜，由权利要求4所述的方法制造。

15.一种多层镜，由权利要求8所述的方法制造。

16.一种EUV光学系统，包括至少一个如权利要求13所述的多层镜。

17.一种EUV光学系统，包括至少一个如权利要求14所述的多层镜。

18.一种EUV光学系统，包括至少一个如权利要求15所述的多层镜。

19.一种EUV微蚀刻装置，包括至少一个如权利要求16所述的EUV光学系统。

20.一种EUV微蚀刻装置，包括至少一个如权利要求17所述的EUV光学系统。

21.一种EUV微蚀刻装置，包括至少一个如权利要求18所述的EUV光学系统。