[发明专利]用于制造显示面板的掩模有效
申请号: | 01138161.2 | 申请日: | 2001-11-28 |
公开(公告)号: | CN1362642A | 公开(公告)日: | 2002-08-07 |
发明(设计)人: | 金昌男;申东旭;金宗民 | 申请(专利权)人: | LG电子株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G02F1/15 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 魏晓刚,李晓舒 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 显示 面板 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于制造大尺寸显示面板的掩模。
背景技术
近年来,随着画面不断向高质量和高分辨率发展,显示面板的尺寸也越来越大。但是这样大尺寸显示面板的制造中存在许多困难,其中一个制造工艺困难是由大显示面板的制造中使用的掩模导致的,即制造大尺寸显示面板需要大尺寸掩模。
但是,这种大尺寸掩模的制造不仅需要大量的时间和成本,而且制造过程中掩模的下垂也会导致精确度不高的缺陷。例如,对于制造有机EL显示面板,需要如图1A所示的条纹型掩模,或者是如图1B所示的△型掩模,来不变的沉积R、G、B像素的发光材料层。但是那些掩模由于掩模上的图案而易于下垂,并损坏在材料的沉积过程中形成的阻挡层等,特别是,其中形成矩形长条形图案的条纹型掩模其下垂比△型掩模更多。
参考图2,当在大尺寸基板上大规模制造单元器件时,掩模的下垂变得更加明显,因为如图3所示,掩模的尺寸需要与基板一样大,并且还在掩模上形成许多图案。
为了解决这个问题,向掩模施加张力,但是这样会导致掩模图案的变形,即扭曲或拉长,使得沉积过程的精确度变差,而限制了掩模的尺寸。
另外即使使用不下垂的掩模,掩模上的金属条纹也在微弱的冲击下就易于产生变化,而损坏面板的阻挡层。即由于掩模和面板之间的间隙非常小,因此掩模振动导致了在面板上形成的阻挡层中最上面的阻挡层的损坏,由此引起了第二电极制造过程中像素的短路。
但是为了防止阻挡层损坏而在掩模和面板之间形成大间隙会由于引发其他问题的掩模效应而导致材料在不准确位置的沉积。
发明内容
因此本发明涉及一种用于制造显示面板的掩模,它基本避免了一个或多个由于现有技术的限制和缺点所造成的问题。
本发明的一个目的是提供一种用于制造显示面板的掩模,它不会下垂或遮蔽(shadowing)。
本发明的另一个目的是提供一种用于制造显示面板的掩模,它适用于制造大尺寸的、或大规模生产的显示面板。
本发明的其它特征和优点将在下面的说明书中提及,并且在说明书中会部分地了解,或可以从本发明的实施中学习。本发明的目的和其它优点可以通过在所写的说明书、权利要求书和附图中特别指出的结构来实现。
可以理解,不论是前面的概括描述还是后面的详细描述,它们都是示例性和说明性的,并希望是作为如权利要求所述的本发明提供进一步的解释。
附图说明
以下的附图为本发明提供了更好的理解,并引入说明书中构成说明书的一部分,它们显示了本发明的实施例,并与说明书部分一起用来解释本发明的原理。
图1A和1B分别表示条纹型和△型掩模;
图2表示在单元器件大规模生产中使用的大尺寸面板;
图3表示用于制造图2的大尺寸面板的现有技术大尺寸掩模;
图4表示根据本发明优选实施例的子掩模;
图5A-5C分别表示根据本发明的优选实施例的用于将子掩模和子框架固定的每种方法的截面图;
图6表示大尺寸掩模的主框架,其上放置了图4所示的子掩模;
图7表示根据本发明优选实施例的大尺寸掩模。
具体实施方式
现在详细的参考本发明的优选实施例,其实施例如附图所示。本发明提出制造具有多个孔的主框架,根据要制造的面板尺寸和图案将子掩模分别装配在孔中,来提供适合于制造大尺寸或大规模制造的显示面板的掩模,该掩模不会下垂或遮蔽。
图4表示根据本发明优选实施例的子掩模。
参考图4,根据本发明优选实施例的子掩模包括具有至少一个图案的子掩模11,围绕子掩模11边缘固定的子框架12,用来固定子掩模。子掩模11可以在其上形成随设计者的需要而变化的一个图案,或者是具有在不引起子掩模11下垂的图案数量限制范围内的多个图案。
围绕着子掩模11固定的子框架12可以由金属、聚合物、无机材料等形成,它们是可成形的,并且是坚固耐弯曲的,例如金属可以是铝、镍、钨、钛、铁、铜或它们的合金,或者聚合物可以是塑料、或者无机材料可以是玻璃或晶片。
可以采用各种方法来将子掩模固定于子框架12,其中使用了图5A-5C所示的三种方法。
参考图5A,在第一个方法中,子掩模11被安装在子框架12上,给子掩模11施加均匀的张力,以防止子掩模11的下垂,并利用激光器13将子掩模11固定在子框架12上。
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