[发明专利]选择性保护浆果赤霉素衍生物的方法及其在合成塔三烷中的应用

权利要求书

1.如下通式3d的塔三烷衍生物的制备方法：

式中R₁、R₂、R₄、R₅、R₆和R₁₄彼此独立地表示基团Q，其中：Q＝H、OH、R、OR、SH、SR、OCOR、OCOOR、HCO、X，并且

X＝卤素，

R彼此独立地表示直链或支链饱和或不饱和烷基、全卤代烷基、直链或支链饱和或不饱和杂烷基、饱和或不饱和环烷基、饱和或不饱和杂环烷基、芳基、芳烷基，这些基团可以被一个或几个卤素取代，

R₇选自2，2，2-三溴乙氧羰基、2-三氯甲基-2-丙氧羰基、2-三甲基甲硅烷基-乙氧羰基和芴基甲氧羰基；

R₁₀表示式O-CO-R的酰基，R如上所述，以及

R₁₃表示塔三烷的侧链前体基团，

该方法包括通式3c的塔三烷通过采用适当的塔三烷侧链前体将13位的羟基酯化来用于半合成塔三烷，然后对7位的羟基进行选择性解保护，必要时同时进行和/或预先进行打开和/或转变和/或解保护侧链前体，以得到所需的塔三烷

R₁、R₂、R₄、R₅、R₆、R₇、R₁₀和R₁₄如前面所定义。

2.权利要求1的方法，其特征在于R₇表示如下通式的烷氧羰基式中Z1和Z2彼此独立地表示氢原子、上述基团R或卤素，

Z3、Z4和Z5彼此独立地表示氢原子、卤素，基团R、OR、Si(R)₃，R如上定义，或者Z3、Z4和Z5中的两个组成芳环或非芳环的一部分，

条件是当Z2、Z3或Z4中的一个表示氢原子时，Z3、Z4或Z5中的至少一个表示基团Si(R)₃，或者Z3、Z4和Z5中的两个组成芳环或非芳环的一部分，以及

条件是当Z3、Z4或Z5中的一个表示卤素以及Z1和Z2各自表示氢原子时，Z3、Z4和Z5每个都表示选自溴或碘的卤素。

3.权利要求2的方法，其特征在于Z1和Z2表示氢原子或烷基。

4.权利要求2的方法，其特征在于Z3、Z4和Z5都表示溴。

5.权利要求2的方法，其特征在于Z1和Z2每个都表示烷基，Z3、Z4和Z5每个都表示卤素。

6.权利要求2的方法，其特征在于Z3、Z4和Z5中的两个组成芴基环的一部分。

7.权利要求1的方法，其特征在于R₁₃是PACLITAXEL的侧链前体。

8.权利要求1的方法，其特征在于7位羟基的解保护通过β消除机理进行。

9.如下通式3d的衍生物

式中R₁、R₂、R₄、R₅、R₆、R₇、R₁₀、R₁₃和R₁₄如权利要求1～7中任一项所定义。