[发明专利]设计电子束掩模的方法和装置

权利要求书

1.一种设计电子束(EB)掩模的方法，包括步骤：

(a)将集成电路图形分为两个互补图形；

(b)围绕包含在所述两个互补图形之一中的一个作为目标图形的小图形进行扫描，同时测量从所述目标图形到与所述目标图形相邻的所述小图形的距离；

(c)记录从所述目标图形到所述相邻小图形之间的最小距离；和

(d)基于所述最小距离改变至少一个所述小图形的形状。

2.根据权利要求1的设计EB掩模的方法，其特征在于，所述步骤(d)包括如下步骤：

(e)在所述目标图形和最接近的一个所述相邻小图形之间添加辅助图形。

3.根据权利要求2的设计EB掩模的方法，其特征在于，所述步骤(e)包括如下步骤：

(f)在所述一个互补图形中添加辅助图形；和

(g)在所述互补图形中的另一个互补图形中，从与所述辅助图形相对应的位置删除与所述辅助图形形状一样的图形。

4.根据权利要求1的设计EB掩模的方法，其特征在于，所述步骤(d)包括如下步骤：

(h)在预定的方向上移动所述一个互补图形的一部分。

5.根据权利要求4的设计EB掩模的方法，其特征在于，所述步骤(h)包括：

(i)在所述预定的方向上移动所述一个互补图形的所述部分；和

(j)在所述两个互补图形中的另一个互补图形中，从与所述部分相对应的位置删除与该部分形状一样的图形。

6.根据权利要求1的设计EB掩模的方法，其特征在于，所述步骤(b)包括如下步骤：

(k)如果所述距离超过阈值，则停止所述扫描。

7.一种用于设计EB掩模的装置，包括：

存储器(12)；和

处理器(10)，该处理器：

将集成电路图形分为两个互补图形；

围绕包含在所述两个互补图形之一中的一个作为目标图形的小图形进行扫描，同时测量从所述目标图形到与所述目标图形相邻的所述小图形之间的距离；

将从所述目标图形到所述相邻小图形之间的最小距离寄存到存储器(12)中；和

基于所述最小距离改变至少一个所述小图形的形状。

8.根据权利要求7的用于设计EB掩模的装置，其特征在于，所述处理器(10)在所述目标图形和所述相邻小图形中最邻近的一个小图形之间添加辅助图形。

9.根据权利要求8的用于设计EB掩模的装置，其特征在于，所述处理器(10)在所述一个互补图形中添加所述辅助图形；和

在所述两个互补图形中的另一个互补图形中，从与所述辅助图形相对应的位置删除与所述辅助图形形状相同的图形。

10.根据权利要求7的用于设计EB掩模的装置，其特征在于，所述处理器(10)在预定的方向上移动所述一个互补图形的一部分。

11.根据权利要求10的用于设计EB掩模的装置，其特征在于，处理器(10)在所述预定的方向上移动所述一个互补图形的所述部分；和

在所述两个互补图形中的另一个互补图形中，从与所述部分相对应的位置去除与所述部分形状相同的图形。

12.根据权利要求7的用于设计EB掩模的装置，其特征在于，如果所述距离超过阈值，则所述处理器(10)停止所述扫描。