[发明专利]干冰清洗方法和装置以及由干冰清洗的部件或装置

权利要求书

1.一种通过向清洗目标物例如包括电子元件的部件或装置喷射干冰来对其进行清洗的方法，其特征在于，在向清洗目标物喷射干冰过程中，清洗剂滴向或喷向清洗目标物，且通过干冰和清洗剂同时作用于清洗目标物的清洗表面来进行清洗。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，通过根据清洗目标物的污垢类型来调节清洗剂的类型和浓度来进行清洗。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，通过根据清洗目标物的污染度来调节清洗剂的浓度和用量来进行清洗。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，通过根据清洗目标物的污垢类型和污染度来调节干冰的用量和大小来进行清洗。

5.一种通过向清洗目标物例如包括电子元件的部件或装置喷射干冰来对其进行清洗的装置，其特征在于，该装置包括用于向清洗目标物的清洗表面喷射干冰的装置、用于储存清洗剂的存储装置和用于在储存于所述存储装置中的清洗剂滴向或喷向清洗目标物的清洗表面时使干冰和清洗剂同时作用于清洗表面的装置。

6.如权利要求5所述的装置，其特征在于，还包括可用于调节清洗剂的浓度或用量的装置。

7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，还包括可用于识别清洗目标物污垢类型的装置。

8.一种包括电子元件的部件或装置，其特征在于，在向所述部件或装置喷射干冰过程中，清洗剂滴向或喷向清洗目标物，且通过干冰和清洗剂同时作用于该部件或装置来进行清洗。

9.如权利要求8所述的部件或装置，其特征在于，通过根据部件或装置的污垢类型来调节清洗剂的类型和浓度来进行清洗。

10.如权利要求8所述的部件或装置，其特征在于，通过根据部件或装置的污染度来调节清洗剂的浓度和用量来进行清洗。

11.如权利要求8所述的部件或装置，其特征在于，通过根据部件或装置的污垢类型和污染度来调节干冰的用量和大小来进行清洗。

12.一种通过向清洗目标物的清洗表面喷射干冰来对其进行清洗的方法，其特征在于，检测清洗表面的污秽或污染程度，并根据检测污染程度所获得的信号调节清洗剂的类型或喷射量来进行清洗。