[发明专利]生产高折射率光学涂层的气相沉积材料和该气相沉积材料的生产方法

权利要求书

1.在减压下生产氧化钛、钛和氧化镧的高折射率光学涂层的气相沉积材料，特征在于所述材料是一种烧结混合物，组成为TiO_x+z×La₂O₃，这里x＝1.5-1.8，z＝10-65重量％，以混合物的总重量为基准。

2.根据权利要求1的气相沉积材料，特征在于所述混合物包含19-65重量％氧化镧，38-74重量％氧化钛和2-7重量％钛。

3.根据权利要求2的气相沉积材料，特征在于所述混合物由58.9重量％氧化镧、37.9重量％氧化钛和3.2重量％钛组成。

4.根据权利要求2的气相沉积材料，特征在于所述混合物由63重量％氧化镧、34重量％氧化钛和3重量％钛组成。

5.根据权利要求1的气相沉积材料，特征在于氧化钛TiO₂与钛之间的比例决定氧化钛TiO_x中氧的化学计量比为x＝1.5-1.8。

6.根据权利要求1的气相沉积材料，特征在于氧化钛∶氧化镧的重量比可以通过混合氧化镧和氧化钛与钛的混合物来确定。

7.根据权利要求1-4的气相沉积材料，特征在于所述气相沉积材料的光学涂层对于500纳米波长的折射率为2.15-2.25，特别是2.20。

8.生产根据权利要求1-7的气相沉积材料的方法，特征在于均匀混合组成为TiO_x+z×La₂O₃的氧化钛、钛和氧化镧的混合物，其中x＝1.5-1.8，z＝10-65重量％，以混合物的总重量为基准，造粒或压片到颗粒尺寸为1-4毫米，随后减压烧结。

9.根据权利要求8的方法，特征在于所述烧结在10-4毫巴的真空中，在1500-1600℃的温度下进行，烧结时间为5.5-6.5小时。

10.生产根据权利要求1-7的气相沉积材料的光学涂层的方法，特征在于把待涂敷的基板清洗、干燥并安装在气相沉积装置的基板夹具上，把气相沉积装置抽真空到1×10^-5毫巴，把基板加热到280-310℃，使氧气进入气相沉积装置，直到压力达到1-2×10^-4毫巴，在通过隔板密封的气相沉积装置中的电子束蒸发器中熔化气相沉积材料，加热到其蒸发温度2200-2300℃，打开隔板后，使基板涂敷气相沉积材料达到预定厚度。

11.根据权利要求10生产的光学涂层作为眼镜透镜、光学仪器透镜、激光技术的光学器件的防反射涂层的用途以及作为用于分光器、干涉镜、冷光镜和热防护滤光镜的具有预定的高折射率和/或吸光性能的涂层的用途。