[发明专利]用于阵列式集成电路光刻扫描装置的线阵光源无效
申请号: | 01144580.7 | 申请日: | 2001-12-21 |
公开(公告)号: | CN1356595A | 公开(公告)日: | 2002-07-03 |
发明(设计)人: | 徐端颐;齐国生;蒋培军;范晓东;钱坤 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B27/00;H04N1/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 阵列 集成电路 光刻 扫描 装置 光源 | ||
1.一种阵列式集成电路光刻扫描装置用的线阵光源,含有许多形状为严格正方形且出射光强均匀的单个微光源组成的线阵,其特征在于,它含有:在同一线阵长度内依次排列着的下列元件:n个出射光强均匀的半导体激光器,n个分别会聚该激光器出射光的会聚透镜,n束分别接收上述透镜出射光的每束共有m根光纤的光导纤维,m个由分别来自各个光纤束的n根光纤排列成直线的线阵光纤头和每个线阵光纤头对应的成像透镜。
2.据权利要求1的阵列式集成电路光刻扫描装置用的线阵光源其特征在于:所述的线阵光源长度n和线阵光源个数m可以相等,也可以不相等,可以根据需要调整。
3.据权利要求1的阵列式集成电路光刻扫描装置用的线阵光源其特征在于:所述的线阵光纤头依次含有:由来自各个光纤束的单根光纤排列而成的光纤阵列层,覆盖在线阵光纤头上用掩膜制成的光强均匀层,对应光纤处呈严格正方形且对所用波长的激光有高透射率而其他区域则有高吸收率的相位孔径层。
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