[实用新型]中性水水处理器无效
申请号: | 01201382.X | 申请日: | 2001-02-13 |
公开(公告)号: | CN2463382Y | 公开(公告)日: | 2001-12-05 |
发明(设计)人: | 葛敬 | 申请(专利权)人: | 葛敬 |
主分类号: | C02F1/48 | 分类号: | C02F1/48 |
代理公司: | 北京市汇泽专利商标事务所 | 代理人: | 赵军 |
地址: | 100044 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 中性 水处理 | ||
本实用新型涉及一种水处理设备,特别是指一种中性水水处理器。
给水系统主要存在以下问题:腐蚀及腐蚀引起的二次污染问题;结垢问题;菌藻问题以及水质问题。目前的处理方式一般采用化学方法,即向水中加入一定量的化学药剂,以达到灭菌、缓蚀、防垢和除垢的目的。但化学处理方法有些本身无法克服的缺陷:其一是,化学处理后的水质容易污染环境,特别是在环保越来越受到人们重视的今天,更使这种方法受到了极大的制约。其二是,化学处理方法的运行成本高,维护和管理复杂,有时在实践中不易做到精确的计量或达不到稳定的处理效果。其三是,在化学处理过程中,化学药剂对设备有二次腐蚀作用,降低了设备的使用寿命,且于操作不当时,容易发生事故。
本实用新型的目的是:提供一种纯物理方式的水处理设备,即一种中性水水处理器,将其安装于给水系统中,在不添加任何药剂的前提下,耗用电能,将不同频率的电磁波经过称作射频发射极的换能器的发射,馈散给被处理的水介质,达到防垢、除垢、防腐、杀菌和灭藻的目的。
本实用新型的目的是由以下技术方案实现的:主要由罐体、射频发射极和射频发生器构成。出水口和入水口焊接在罐体的上、下端板上;数个极座并列或交错焊接在罐体的罐壁上,射频发射极由压板经螺栓与极座固定在一起,射频发射极由瓷材料制成,其一端封闭,另一端延伸出圆台,射频发射极的内壁镀有金属层并焊接有导线;射频发射极与射频发生器实行电连接;每个射频发射极可独立连接一个射频发生器,也可数个射频发射极共用一个射频发生器,每个射频发生器的频率可以相同或不同。射频发生器主要由电源、震荡器、选频器、分频器和放大器所构成,经过频率调整,各射频发生器可产生的频率范围是3-150MHz。
本实用新型的优点是:
1、材料性能好、可靠性高:由于采用瓷材料做射频发射极,使其绝缘和耐腐蚀性能好、强度高、输出电参数稳定,运行可靠。
2、使用效果好、无化学污染:由于可根据不同的水处理量采用不同管径的罐体和安装不同数目的射频发射极,而每个射频发射极可针对不同的处理目的确定需要的发射频率,提高了纯物理方法对水的处理效果、无化学污染。
3、处理流量大、可耐高温:与其它水处理方法相比,这种水处理器的工作原理先进,制作大容积罐体和增加射频发射极的数量容易,材料耐高温,因而大大增加了处理流量。
4、应用范围广、发展前景广阔:它不仅适用于饮用和锅炉用水,还适用于制造业、食品加工、电子行业、造纸业和火力发电等与水相关的领域,发展前景广阔。
下面结合附图和实施例对本实用新型做进一步说明:
图1为本实用新型组合剖视图。
图2为射频发射极剖视图。
图3为射频发生器电路方块图。
图中标号说明如下:
1、射频发射极 2、射频发生器 3、罐壁
4、上端板 5、下端板 6、出水口
7、入水口 8、极座 9、导线
10、密封圈
如图1、2所示的小型中性水处理器,其圆柱形罐体由罐壁(3)、上端板(4)、下端板(5)、出水口(6)、入水口(7)和极座(8)所构成,其中上、下端板(4)和(5)分别与罐壁(3)焊接为一体,出、入水口(6)和(7)的里端分别焊接在上、下端板上,其外端分别经法兰与管道连接,2个极座(8)并列焊接在罐壁(3)上。射频发射极(1)呈圆筒状并由高频瓷材料制成,射频发射极的瓷材料除可以是高频瓷外,还可以是75瓷、80瓷、85瓷、90瓷或95瓷,与其它可制做射频发射极的材料相比,瓷材料具有绝缘和耐腐蚀性能好、强度高、耐高温、输出电参数稳定的特性,射频发射极(1)的一端封闭,另一端延伸出圆台,其内壁镀有金属层,一根导线(9)焊接在内壁所镀的金属层上,2个射频发射极安装在极座(8)上,并由压板经螺栓与极座固定在一起,极座与射频发射极圆台的连接处设有密封圈。射频发射极(1)上分别安装有射频发生器(2),其中一个射频发生器的发射频率为35Mhz,另一个为55Mhz,可分别达到除垢和灭菌的针对性效果。
图3所示的是射频发生器电路方块图,射频发生器主要由电源、震荡器、选频器、分频器和放大器所构成,其中震荡器采用电感冷式高频震荡器,放大器采用三级丙类放大器,选频器采用串联谐振选频,经过频率调整,各射频发生器可产生的频率范围是3-150MHz。
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