[实用新型]电热磁化按摩足盆无效
申请号: | 01210487.6 | 申请日: | 2001-02-12 |
公开(公告)号: | CN2476279Y | 公开(公告)日: | 2002-02-13 |
发明(设计)人: | 何锋 | 申请(专利权)人: | 何锋 |
主分类号: | A61H39/04 | 分类号: | A61H39/04;A61H7/00;A61F7/00;C02F1/48;A47K3/022 |
代理公司: | 浙江省专利事务所 | 代理人: | 陈向群 |
地址: | 321313 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电热 磁化 按摩 | ||
1、一种电热磁化按摩足盆,盆体的内底面均匀分布按摩凸点,其特征在于:所述的盆体(2)底部设有发热体(11),发热体(11)包括电热元件(9)、温控器(10)和电源插座(12),电热元件(9)设置在发热体(11)上表面并与盆体(2)的底部相接触。
2、根据权利要求1所述的一种电热磁化按摩足盆,其特征在于:所述的盆体(2)内底面还设有摩擦条(4),盆体(2)内底面中部设有弧形凸块(7)。
3、根据权利要求2所述的一种电热磁化按摩足盆,其特征在于:所述的弧形凸块(7)内设有永磁体(8),弧形凸块(7)表面设有导磁孔(16)并与永磁体(8)连通。
4、根据权利要求1所述的一种电热磁化按摩足盆,其特征在于:所述的盆体(2)上口设有一对相对称的脚架(14),脚架(14)表面设有防滑点(15)或防滑条。
5、根据权利要求1至4任一项所述的一种电热磁化按摩足盆,其特征在于:所述的盆体(2)底部设有与发热体(11)相吻合的凸边(3)。
6、根据权利要求5所述的一种电热磁化按摩足盆,其特征在于:所述的盆体(2)与发热体(11)为分体结构,盆体(2)底部设有定位销(5),发热体(11)上设有与之相对应的定位孔(17)。
7、根据权利要求6所述的一种电热磁化按摩足盆,其特征在于:所述的的发热体(11)上固定有左、右对称的盆体托架(1),盆体托架(1)与盆体(11)上部相吻合。
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