[实用新型]一种凹雕工艺雕像无效
| 申请号： | 01215053.3 | 申请日： | 2001-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN2513793Y | 公开（公告）日： | 2002-10-02 |
| 发明（设计）人： | 蔡怡广 | 申请（专利权）人： | 蔡怡广 |
| 主分类号： | B44F1/02 | 分类号： | B44F1/02;B44F7/00 |
| 代理公司： | 广东世纪专利事务所 | 代理人： | 刘卉 |
| 地址： | 515800 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 工艺 雕像 | ||
1、一种凹雕工艺雕像，其特征在于：所述雕像包括带有内凹腔(11)的本体(1)，所述内凹腔(11)包括正面、向外倾斜的侧面及顶面，其中侧面、顶面与正面以弧形过渡连接，内凹腔(11)的正面、侧面和顶面雕刻有对应于人、物正面、侧面及顶面的图形，形成立体人、物形象。
2、根据权利要求1所述的凹雕工艺雕像，其特征在于：所述内凹腔(11)设置有向外倾斜的底面，底面雕刻有对应于人、物底面的图形，形成立体人、物形象。
3、根据权利要求1或2所述的凹雕工艺雕像，其特征在于：所述侧面、底面和/或顶面向外倾斜的最佳角度为10°-45°。
4、根据权利要求1或2所述的凹雕工艺雕像，其特征在于：所述内凹腔(11)的深度与雕刻的人、物的厚度相适应。
5、根据权利要求1或2所述的凹雕工艺雕像，其特征在于：所述内凹腔(11)上设置有印有图案的贴纸、膜片或者在内凹腔(11)上绘制出图案。
6、根据权利要求1或2所述的凹雕工艺雕像，其特征在于：所述本体(1)周围设置有可照射内凹腔(11)的光源(2)。
7、根据权利要求6所述的凹雕工艺雕像，其特征在于：所述本体(1)的底部设置有向前突出的座体(12)，座体内设置有由圆弧面构成的反射腔(13)，光源(2)设置在反射腔(13)内壁可将光线散射至内凹腔(11)的位置上。
8、根据权利要求6所述的凹雕工艺雕像，其特征在于：所述光源(2)为二个或者二个以上，分别设置在内凹腔(11)周围不同位置。
9、根据权利要求8所述的凹雕工艺雕像，其特征在于：所述光源(2)具有不同的颜色，且按照一定顺序依次开启。
10、根据权利要求1或2所述的凹雕工艺雕像，其特征在于：所述本体(1)外形设置成与所雕刻的人、物相关的形状。
11、根据权利要求1或2所述的凹雕工艺雕像，其特征在于：所述本体(1)设置有可挂置的固定装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蔡怡广，未经蔡怡广许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/01215053.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
