[实用新型]液相沉积生产装置无效
申请号: | 01224833.9 | 申请日: | 2001-05-28 |
公开(公告)号: | CN2480380Y | 公开(公告)日: | 2002-03-06 |
发明(设计)人: | 梁沐旺;蒋邦民;陈朝明;黄振荣;叶清发 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 刘国平 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 生产 装置 | ||
1.一种液相沉积生产装置,其特征在于包括:
一组饱和反应设备,该饱和反应设备包含一只混合槽、两只以上的原物料供给装置;
一组稳流过饱和循环反应设备,该稳流过饱和循环反应设备包含一只过饱和反应槽、至少一只液位控制槽、两只以上的反应剂供给装置,并以相关管路阀体控制组件与所述的饱和反应设备相连通。
2.如权利要求1所述的液相沉积生产装置,其特征在于在所述的饱和反应设备或稳流过饱和循环反应设备设置有溶液化学浓度自动监控设备,该溶液化学浓度自动监控设备至少有两个以上的溶液化学浓度自动监控装置,以相关管路组件连接并监控所述混合槽、过饱和反应槽及液位控制槽的溶液化学浓度。
3.如权利要求1所述的液相沉积生产装置,其特征在于在所述的饱和反应设备及稳流过饱和循环反应设备设置有废液回收处理设备,该废液回收处理设备包含两只以上的回收废液储存槽。
4.如权利要求1所述的液相沉积生产装置,其特征在于所述的饱和反应设备还包含搅拌器及过滤装置。
5.如权利要求1所述的液相沉积生产装置,其特征在于所述的稳流过饱和循环反应设备还包含搅拌器及过滤装置。
6.如权利要求1所述的液相沉积生产装置,其特征在于该稳流循环设备系包含有过滤器、滤心阻塞传感器以及一加热器。
7.如权利要求1所述的液相沉积生产装置,其特征在于该过饱和反应槽及液位控制槽取‘单边溢流’结构, 其中反应槽包含过饱和反应槽及液位控制槽;在过饱和反应槽的底部设有一可供反应剂进入的进液孔;在液位控制槽的底部设有一可供反应剂流出的出液孔,当过饱和反应槽内的液面过高时,再由单边溢出至该液位控制槽。
8.如权利要求1所述的液相沉积生产装置,其特征在于该过饱和反应槽及液位控制槽取‘两侧溢流’结构,其中反应槽包含过饱和反应槽及其两侧的液位控制槽;在过饱和反应槽的底部设有两处可供反应剂进入的进液孔;在液位控制槽的底部设有两处可供反应剂流出的出液孔,当过饱和反应槽内的液面过高时,即溢出至两侧的液位控制槽内。
9.一种液相沉积生产装置的液位控制槽,其特征在于在两个液位控制槽底部设有连通通道,使所述两个液位控制槽相连通,维持两液位控制槽内的液面高度一致。
10、如权利要求9所数的液体上沉积生产装置的液位控制槽,其特征在于该液位控制槽底部的连通通道为“∏”型通道。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理