[实用新型]隔膜电解槽盐水补充装置

说明书

所属技术领域

本实用新型是对隔膜电解槽制取二氧化氯复合消毒剂时，精制盐水补充其电解中消耗氯化钠的装置，以免堵塞隔膜，装置属于二氧化氯发生器

技术领域。

背景技术

工业中常用隔膜电解槽电解食盐(或工业盐)制氯和氢氧化钠，如氯碱工业用的沃尔斯电解槽、西门子——毕尔特尔电解槽。它们都将食用盐(或工业盐)，经溶盐、投药反应、沉淀、澄清、中和、去除盐中的杂质，制得饱和精盐水，补充电解槽消耗的氯化钠，避免槽中的隔膜被堵塞，影响电解正常运行。去除杂质制取饱和精盐水，设专门的车间，用管道远距离输送精盐水。

1988年6月以来，我国市场上流行名称众多的二氧化氯复合消毒剂发生器(简称发生器，下同)，就所收集的产品简介知，都是二室隔膜电解槽，电解食盐(或工业盐)溶液，制取二氧化氯复合消毒剂，其盐溶液未经去杂精制，隔膜常被堵塞，不得不停运清洗隔膜。对比氯碱工业，发生器亦应设置盐水补充装置，补充电解中消耗的氯化钠，以避免堵塞隔膜。

本实用新型要解决的技术问题：使盐水补充装置与发生器的电解槽对接构成互动闭合系统，并融合成一体，且使装置内的液位稳定，保障装置连续稳定地精制饱和盐水。为此采取以下技术方案：采用氯碱工业的精制盐水工艺，设溶盐池(含投药反应)沉淀池、澄清池、中和池，各池间以溢流孔相连，孔高低有差，各池以顺序溢流的方式工作，当发生器的电解槽阴极室溢出含碱的部分溶液，输入溶盐池，溶盐、沉淀，并引发各池间的顺序溢流，到中和池，可得饱和精盐水；此盐水用泵提升到高位水箱，经高位水箱的精盐水输出口及其控制阀门，自流输入到发生器的电解槽(阳极室和阴极室)，电解槽的液位升高，使电解槽阴极室含氢氧化钠的溶液由溢流口溢出，经溶盐池的碱液输入口及其电动阀门，投入溶盐池溶盐，也投放了氢氧化钠，并引发盐水补充装置各池的顺序溢流，从而制备了精盐水，并补充到电解槽，这就构成了盐水补充装置与电解槽的对接互动闭合系统，图1是盐水补充装置与电解槽对接互动闭合系统的流程图。

本实用新型的有益效果是：结构简单紧凑，达到了盐水精制和补充电解槽精盐水的目的，实现盐水补充装置和电解槽融合成一体，降低成本，便于使用。

附图说明

图1是盐水补充装置与电解槽对接互动闭合系统的流程图。

图2是盐水补充装置与电解槽对接互动的结构示意图，其中(a)是纵剖视图，(b)是俯视图。

图1中，盐水补充装置由溶液池(2)、沉淀池(3)、澄清池(4)、中和池(5)、提升泵(6)、高位水箱(8)等组成，籍溶盐池的碱溶液输入接口及其电动阀门(12)与电解槽阴极室(11)对接；籍高位水箱(8)的输出精盐水接口及其控制阀门(9)与电解槽的阳极室(10)阴极室(11)对接输出精盐水补充电解槽。当高位水箱给电解槽补充饱和精盐水时，电解槽(1)的液位升高，使阴极室(11)的溢流孔向溶盐池(2)的输入碱溶液接口(12)溢流，投入含氢氧化钠的溶液，溶盐并引发溶盐池(2)、沉淀池(3)、澄清池(4)、中和池(5)依序溢流，制取饱和精盐水，中和池(5)设置盐酸投入口(7)，调整PH值。然后用提升泵(6)把精盐水提升到高位水箱(8)，准备好再次向电解槽(1)补充精盐水。

图2中，盐水补充装置和电解槽(1)，置于同一个长方形塑料容器中，溶盐池(2)紧贴着阴极室(11)，溶盐池(2)的碱液输入接口(12)，与阴极室(11)的溢流口对接。溶盐池(2)沉淀池(3)、澄清池(4)、中和池(5)之间有溢流孔(13)相通，高度有差，可顺序溢流。各池位置设置与溢流顺序相适应。溶盐池(2)设有投盐口(14)，对应于中和池(5)的塑料容器顶盖(15)上设有盐酸投入口(7)，提升水泵采用小型潜水泵，经外接软管把精盐水输入高位水箱(8)。高位水箱(8)高出塑料容器顶盖(15)300mm，其精盐水经精盐水输出口及其控制阀门(9)(两个)，与电解槽(1)对接，补充精盐水。由此，实施了盐水补充装置与电解槽的对接互动闭合系统。

运行时，高位水箱(8)的精盐水输出接口两个控制阀门(9)分别定时开闭，精盐水定量自动输入电解槽(1)，槽的液位升高，阴极室(11)的溢流口溢出含氢氧化钠的部分溶液，经碱溶液输入接口(12)，投入溶盐池(2)，溶盐、沉淀，并引发装置中各池顺序溢流，实施盐水精制、盐水提升、补充电解槽。当阴极室溢流降低了电解槽的液位时，阴极室溢流终止，其溢出的含碱溶液量，与补充电解槽(1)的精盐水量相当，从而实现了盐水补充装置内部液量的稳定，保证装置能连续运行。