[实用新型]低应力的晶片构装无效
申请号: | 01267545.8 | 申请日: | 2001-10-12 |
公开(公告)号: | CN2508392Y | 公开(公告)日: | 2002-08-28 |
发明(设计)人: | 吴澄郊 | 申请(专利权)人: | 台湾沛晶股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L23/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 应力 晶片 | ||
1.一种低应力的晶片构装,其特征在于,主要包含有:
一载体;
一晶片单元,是由一黏著物的涂布,而以其一端面具有一局部贴接处贴接于该载体上,且该黏著物是自该晶片的中心点向外于四周涂布,并以不涂布至该晶片单元的周缘为原则;
多数的焊线,是用以将该晶片单元电性导通于该载体;
一罩体,是罩设于该载体上,用以封闭该晶片单元,以避免该晶片单元受外力的破坏或杂物的污染。
2.依据权利要求1所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中该晶片单元是为一集成电路晶片。
3.依据权利要求2所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中该晶片单元还具有一载板,与该晶片黏接而置设于该载体上。
4.依据权利要求1所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中该黏著物是自该晶片单元一端面的中心点处,向四周涂布延伸至足以将该晶片单元固定及平衡于该载体上的最小宽度。
5.依据权利要求1所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中该黏著物是自该晶片单元一端面的中心点处,向外延伸一预定涨离的位置上往内涂布,具其涂布的位置是未超出于该晶片罩元的周缘,且也并来往内涂布至该晶片单元的中心点。
6.依据权利要求1所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中该罩体是由不透明的塑胶、金属所制成的板件,其具有一通孔,该通孔是对应该晶片单元的位置,且该通孔中至少封设固定有一镜片。
7.依据权利要求1所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中更具有一垫片,该垫片是置设于该晶片单元与该载体之间,且是位于该黏著物的周边,而可用以支撑或增加该晶片罩元与该载体闲的结合强度。
8.依据权利要求1所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中该载体更设有一缺槽,是供该黏著物置入,而可使该晶片单元端面上未涂布黏著物处略与该载体接触。
9.一种低应力的晶片构装,其特征在于,主要包含有:
一载体;
一晶片单元,是由一黏著物的涂布,而以其一端面具有至少二局部贴接处贴接于该载体上,该各黏著物是以该晶片单元的中心点向外形成左右对称,且以不涂布至该晶片单元的周缘为原则;
多数的焊线,用以将该晶片单元电性导通于该载体;
一罩体,是罩设于该载体上,用以封闭该晶片单元,以避免该晶片单元受外力的破坏或杂物的污染。
10、依据权利要求9所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中该晶片单元是为一集成电路晶片。
11.依据权利要求10所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中该晶片单元更具有一载板,是与该晶片黏接而置设于该载体上。
12.依据权利要求9所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中该黏著物是自该晶片单元一端而的中心点四周于外,延伸一预定距离的位置上往内涂布,而形成有该至少三互不接触的贴接处,且其涂布的位置是未超出于该晶片单元的周缘,也并未往内涂布至该晶片罩元的中心点。
13.依据权利要求9所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中该罩体是由不透明的塑胶、金属所制成的板件,其具有一通孔,该通孔是对应该晶片单元的位置,且该通孔中至少封设固定有一镜片。
14.依据权利要求9所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中更具有一垫片,该垫片是置设于该晶片单元与该载体之间,且是位于该黏著物的周边,而可用以支撑或增加该晶片单元与该载体闲的结合强度。
15.依据权利要求9所述低应力的晶片构装,其特征在于,其中该载体更设有至少二缺槽,是供该黏著物置入,而可使该晶片单元端面上未涂布黏著物的处略与该载体接触。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造