[发明专利]沉积可溶性材料的方法无效

专利信息
申请号: 01801362.7 申请日: 2001-03-23
公开(公告)号: CN1380839A 公开(公告)日: 2002-11-20
发明(设计)人: T·卡瓦斯 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社;剑桥大学
主分类号: B05D3/04 分类号: B05D3/04;B05D1/26;B41M3/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 卢新华,姜建成
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 沉积 可溶性 材料 方法
【权利要求书】:

1.一种在基片上沉积可溶性材料的方法,其包括以下步骤:

——将可溶性材料装入喷墨打印头中;

——在喷墨打印头和基片之间或在靠近它们的区域形成气流;和

——从打印头中喷射可溶性材料,使其沉积在基片上。

2.权利要求1的方法,还包括在基片上沉积材料的过程中加热基片的步骤。

3.权利要求2的方法,其中加热基片的步骤包括将热气施加到基片上。

4.权利要求2的方法,其中加热基片的步骤,包括将电热板施加到基片上。

5.权利要求2、3或4任一项的方法,其中将可溶性材料沉积在基片的上面,其中加热基片的步骤包括从基片的下面加热基片。

6.前述权利要求任一项的方法,其中在可溶性材料沉积过程中或在可溶性材料沉积之间,使打印头在规定的方向上移动,其中形成气流的步骤包括在所述规定的方向上在打印头和基片之间形成气流。

7.前述权利要求任一项的方法,其包括在基片上喷射第一批材料点的步骤和随后在基片上喷射第二批材料点的步骤,以便部分地重叠在第一批材料点上。

8.权利要求5的方法,其中材料点的喷射是以连续方式进行的,以便沉积连续的材料带。

9.一种制造具有活性区的器件的方法,其包括采用前述权利要求任一项的方法,在大于活性区的基片区域上沉积材料。

10.一种制造显示器件的方法,其包括采用前述权利要求任一项的方法制造光发射元件。

11.前述权利要求任一项的方法,还包括选择可溶性材料的步骤,可溶性材料包括下列的至少一种:[聚(9,9-二辛基芴)]、[聚(9,9-二辛基芴-co-2,1,3-苯并噻二唑)]、和[聚(9,9-二辛基芴-co-N-(4-丁基苯基)二苯胺)]。

12.前述权利要求任一项的方法,还包括选择可溶性材料的步骤,可溶性材料包括下列的至少一种:氯仿、甲苯、对-二甲苯、1,3,5-三甲基苯、苧烯、对-甲基异丙基苯、二乙基苯、萜品油烯、二甲基咪唑啉酮(DMI)、环己基苯、和十二烷基苯。

13.一种在基片上沉积可溶性材料的设备,其包括喷墨打印头,和在喷墨打印头和基片之间或在靠近它们的区域形成气流的气流装置。

14.权利要求13的设备,还包括加热基片的加热装置。

15.权利要求14的设备,其中加热装置包括加热气源。

16.权利要求14的设备,其中加热装置包括电热板。

17.权利要求14-16任一项的设备,其中安装有在基片上面沉积可溶性材料的打印头,并安装有从基片下面加热基片的加热装置。

18.权利要求13-17任一项的设备,其中安装有在可溶性材料沉积过程中或在可溶性材料沉积之间以规定方向上移动的打印头,并安装有在打印头和基片之间在所述规定方向上形成气流的气流装置。

19.权利要求13-17任一项的设备,其中打印头包括压电元

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