[发明专利]照相乳剂面保护层转印膜及具有该保护层的光掩模

说明书

技术领域

本发明涉及为了将保护层转印到用于印刷电路板或显示板图形形成的光掩模以及制版用光掩模的乳剂面而使用的转印膜，以及通过保护层而使乳剂面受到保护的光掩模。

技术背景

各种材料的表面保护方法，到目前为止已知的有，将在聚酯薄膜等薄膜表面设计有粘合剂层的保护层贴到对象物表面的方法，在具有剥离性薄膜上设计有保护层，通过粘合剂或粘着剂，将保护层转印到对象物表面上的方法等。当通过这种粘合剂或粘着剂将保护层转印到对象物表面时，虽然具有能够设计薄保护层的优点，但是粘合剂层或粘着剂层的强度比保护层的强度弱，因此具有无法获得整体上具备足够强度的缺点。为了解决该缺点，到目前为止进行了各种研究。

例如特开昭64-18698号公报以及特开平4-201478号公报中，公开了在剥离性片材的剥离性表面上设计了由未固化状态下为固体，同时为热塑性电离辐射固化树脂构成的保护层及粘合层的发明。此外，特开平7-125496号公报公开了在具有剥离性基材薄膜上，通过照射使紫外线固化树脂涂料完全固化所必需的紫外线照射量的1/3～2/3，从而形成处于凝胶化状态的非粘合、半固化状态的固化层，并设计有其下涂层的转印膜。

但是，在这些转印膜中，由于与对象物表面的粘合层为非粘合性的，因此为了使转印膜与对象物的表面粘着，在贴合时要进行加热，或需进一步对对象物的表面涂覆紫外线固化型树脂，具有过程复杂的缺点。此外，对于不耐热或溶剂的材料(例如用于光掩模等的照相薄膜的乳剂面等)，出现了无法进行转印的问题。

此外，特开昭61-258742号公报公开了将能从支持体上剥离，同时具有粘着性的保护层，单独或通过热融着层以及压敏粘合层，转印到对象物表面的方法，但是，在使用该方法时，转印时需加热，如果为了避免加热而使用压敏粘合层，则具有保护层的表面强度降低的缺点。

另一方面，光掩模通常为，由透明基材和在该基材上设计的乳剂层构成，通过摄影测图仪等装置曝光，经水洗等显影、定影、经干燥，用CAD系统等作成图形进行再现的薄层。此外，其中形成所需图形的光掩模，多数情况是作为所谓光刻过程的原版使用。即，含有感光性树脂层，通过接触或具有狭小空隙相粘着的光掩模进行曝光，随后显影、干燥，能够形成与光掩模图形相对应的图形。

但是，用于光掩模的乳剂层的主要成分为明胶，其铅笔硬度为2B以下。因此，在上述光刻过程中，特别是对于没有设计保护层，对对象物感光性树脂的乳剂面进行接触曝光时，光掩模上产生瑕疵，图形的一部分丢失。此外，由于微生物的污染，其成为光掩模上的信息丢失的原因。

因此，以往在未保护的光掩模(本发明说明书中，将没有设计保护层等，处于乳剂层表面暴露状态的光掩模称作未保护光掩模)的乳剂面上贴上市场上出售的带有粘合剂的薄膜，以拟补上述缺点。但是，这些带有粘合剂的薄膜，由于粘合剂层软，容易受到硬的异物的损伤，此外，还具有薄膜自身产生擦伤等缺点。因此，如果光掩模的使用次数增加，则必需替换粘贴的保护层，因此，不具备足够的保护层的功能。

为了改善上述缺点，将带有粘合剂的薄膜的膜厚加大，从而使保护层的强度提高，但是其不仅产生作为光掩模光学特性之一的紫外线透过率降低，必须延长曝光时间，而且使光的反射、折射、乱射的影响明显，不能获得高精度的图形。即，当使用带有粘合剂的薄膜时，如果为了不出现上述在光学特性面出现的问题而使厚度加大，则保护层的强度不能得到保护(铅笔硬度为B)，而且也无法改善容易产生缺陷的缺点。此外，当薄膜薄而与未保护的光掩模贴合时，容易产生褶皱，操作性差。因此，带有粘合剂的薄膜，既满足其作为保护层的足够的强度，同时满足其具有良好紫外线透过率和操作性，是困难的。

此外，如特开平11-305420号公报中记载的那样，其尝试在未保护的光掩模通过喷涂、旋转涂覆、浸渍涂覆等各种方法涂覆涂料，随后在进行干燥的同时，使其热固化，从而设计有保护层。但是，采用该方法，由于需要进行18～72小时的加热蚀刻，因此有损伤乳剂面的可能，而且在涂覆过程(未干燥涂覆过程)中，控制膜厚困难，难于实际使用。

因此，本发明的第1目的在于，提供一种即使对于耐热性或耐溶剂性小的乳剂面，能够在与乳剂层很好地紧密结合的同时，易于形成耐损伤性优异的保护层的转印膜。

本发明的第2目的在于，提供光学特性优异，同时具有优异的耐损伤性的带有保护层的光掩模。

发明内容