[发明专利]制造控制方法无效

专利信息
申请号: 01802241.3 申请日: 2001-08-06
公开(公告)号: CN1386218A 公开(公告)日: 2002-12-18
发明(设计)人: 三谷敏治;鹤冈正己;三好保男 申请(专利权)人: 三井化学株式会社
主分类号: G05B13/02 分类号: G05B13/02;G01N1/00;G01N21/27;G01N21/35;G01J3/42;C08G63/78;C08F2/00;C07C37/08
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘元金,杨丽琴
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 制造 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种制造控制方法,包含

对从制造工艺中得到的多个标准试样,得到包含近红外区域的分析区域的吸收光谱,

对所述分析区域内包含的光谱中选择出来的选择波长,算出标准试样的平均强度(标准平均强度)和标准偏差,并建成数据库,

对从制造工艺中得到的分析试样,得到所述分析区域的吸收光谱,

将所得到的吸收光谱与数据库比较,

求出所述选择波长上分析试样吸收光谱的强度(分析强度)对标准平均强度的偏差(分析偏差),

在包含显示出分析试样吸收光谱的分析偏差在允许值范围之外的分析强度的波长的情况下,将显示出范围外分析偏差的波长与事先数据库化的制造信息对比,得到控制数据,

将所得到的控制数据输入制造工艺中进行控制,从而得到允许值范围内的制品。

2.权利要求1记载的方法,其中,数据库化的制造信息是对应于选择波长的成分信息。

3.权利要求1或2记载的方法,其中,分析强度对标准平均强度的偏差(分析偏差)是根据数据库化的标准试样的标准偏差判断是否在所确定的允许值范围内的。

4.权利要求1~3中任何一项记载的方法,其中,分析区域是800nm~2500nm。

5.权利要求4记载的方法,其中,分析区域是400nm~2500nm。

6.权利要求1~5中任何一项记载的方法,其中,选择波长的间隔是10nm以下。

7.权利要求6记载的方法,其中,选择波长的间隔是2nm以下。

8.权利要求1~7中任何一项记载的方法,其中,吸收光谱是进行微分处理的。

9.权利要求8记载的方法,其中,吸收光谱是进行二次微分处理的。

10.权利要求1~9中任何一项记载的方法,其中,对多种标准试样各用多个样品,算出每一种的标准平均强度和标准偏差,并建成数据库。

11.权利要求1~10中任何一项记载的方法,其中,对多个分析试样得到吸收光谱,求出选择波长上分析试样的平均强度(分析平均强度)对标准平均强度的偏差。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三井化学株式会社,未经三井化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/01802241.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top