[发明专利]磁存储器有效
申请号: | 01802437.8 | 申请日: | 2001-05-16 |
公开(公告)号: | CN1388972A | 公开(公告)日: | 2003-01-01 |
发明(设计)人: | K·-M·H·伦斯森;J·J·M·鲁格罗克 | 申请(专利权)人: | 皇家菲利浦电子有限公司 |
主分类号: | G11C11/16 | 分类号: | G11C11/16;G11C11/15;G11C11/14 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曾祥凌,郑建晖 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁存储器 | ||
1.一种包括磁存储元件阵列(2)的存储器(1),每个磁存储元件(3)包括至少一层磁材料(4),所述存储器设置有屏蔽层(14),用于屏蔽磁场,其特征在于,所述屏蔽层(14)被分成相互隔开的区域(5)。
2.如权利要求1所述的磁存储器(1),其特征在于,每个存储元件(3)包括第二层磁材料(6),其借助于非磁材料(7)和第一层磁材料(4)隔开。
3.如权利要求1所述的磁存储器(1),其特征在于,区域(5)在所述存储元件(2)上的垂直投影包括至少一个存储元件(3)。
4.如权利要求1所述的磁存储器(1),其特征在于,所述存储元件(3)位于离开屏蔽层(13)的一个小于区域(5)的尺寸(9)的一个距离(8)的位置。
5.如权利要求1所述的磁存储器(1),其特征在于,所述区域的厚度(10)和每个区域(5)的尺寸(9)之间的比大于0.01∶1。
6.如权利要求5所述的磁存储器(1),其特征在于,所述区域的厚度(10)和每个区域(5)的尺寸(9)之间的比大于0.1∶1。
7.如权利要求1所述的磁存储器(1),其特征在于,所述区域(5)的厚度(10)超过磁存储元件(3)的厚度(11)。
8.如权利要求1所述的磁存储器(1),其特征在于,所述区域(5)的材料具有大于100的磁化率。
9.如权利要求8所述的磁存储器(1),其特征在于,所述区域(5)的材料具有大于800kA/m的磁饱和值。
10.如权利要求2所述的磁存储器(1),其特征在于,字线(18)位于区域(5)和存储元件(3)之间。
11.如权利要求1所述的磁存储器(1),其特征在于,磁存储器和半导体IC(12)集成在一起。
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