[发明专利]制造自旋阀结构的方法无效

专利信息
申请号: 01802787.3 申请日: 2001-09-05
公开(公告)号: CN1393022A 公开(公告)日: 2003-01-22
发明(设计)人: M·F·吉利斯;A·E·T·凯珀 申请(专利权)人: 皇家菲利浦电子有限公司
主分类号: H01F41/30 分类号: H01F41/30;H01F10/32;H01L43/12;G11B5/39;G01R33/09;G11C11/16
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴立明,陈霁
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 制造 自旋 结构 方法
【权利要求书】:

1.一种制造巨磁阻型自旋阀结构的方法,该结构包含一磁性层、一非磁性层和一铁磁材料传感层的叠层,该方法包含这些步骤,氧化传感层铁磁材料的步骤,随之以在被氧化的传感层铁磁材料上淀积铝的步骤,其后利用被氧化的传感层铁磁材料的氧将该铝氧化成氧化铝膜。

2.根据权利要求1的方法,其中选择金属Co、CoFe合金或NiFe合金作为形成传感层的铁磁材料。

3.一种根据权利要求1或2的方法获得的巨磁阻型自旋阀结构。

4.一种配备有可通过根据权利要求1或2的方法获得的自旋阀结构的读出磁头。

5.一种配备有可通过根据权利要求1或2的方法获得的自旋阀结构的场传感器。

6.一种配备有可通过根据权利要求1或2的方法获得的自旋阀结构的磁性存储器。

7.一种从磁性存储介质读取信息的装置,该装置包含根据权利要求4的读出磁头。

8.一种包含根据权利要求6的磁性存储器的电子电路。

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