[发明专利]活化高能射线束硬化型导电糊、导体电路基片的制造方法及装置以及非接触式ID及其制造方法无效

专利信息
申请号: 01805313.0 申请日: 2001-02-20
公开(公告)号: CN1404612A 公开(公告)日: 2003-03-19
发明(设计)人: 鹤田洋明;中村稔;秋田雅典;伊藤釭司;森俊裕 申请(专利权)人: 东洋油墨制造株式会社;东丽工程株式会社
主分类号: H01B1/20 分类号: H01B1/20;H05K3/12;G06K19/07
代理公司: 北京银龙专利代理有限公司 代理人: 熊志诚
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 活化 高能 射线 硬化 导电 导体 路基 制造 方法 装置 以及 接触 id 及其
【权利要求书】:
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