[发明专利]形成含铝物理气相沉积靶的方法;溅射薄膜;和靶的构成无效
| 申请号： | 01810327.8 | 申请日： | 2001-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN1432070A | 公开（公告）日： | 2003-07-23 |
| 发明（设计）人： | V·M·赛加尔;J·李;F·E·沃福德;S·费尔拉斯 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14;C22C21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王景朝,罗才希 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 物理 沉积 方法 溅射 薄膜 构成 | ||
【说明书】：
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