[发明专利]用于室温下低压微刻痕和毫微刻痕光刻的模板有效
| 申请号： | 01820435.X | 申请日： | 2001-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN1531668A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | 崔炳镇;S·V·斯里尼瓦桑;T·贝利;M·科尔伯恩;C·G·威尔森;J·埃克尔特 | 申请（专利权）人： | 德克萨斯州大学系统董事会 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/00;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 李家麟 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 搜索关键词： | 用于 室温 低压 刻痕 光刻 模板 | ||
【说明书】：
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