[发明专利]磁复制用源载体

权利要求书

1.一种磁复制用源载体，具有向目标介质复制信息的凹凸图案，其特征是所述凹凸图案构成为不形成被凸部包围整个周围的凹部。

2.根据权利要求1所述的磁复制用源载体，其特征是所述凹凸图案的凸部的磁道间距方向的宽度比该磁道间距要小。

3.根据权利要求1所述的磁复制用源载体，其特征是在所述凹凸图案中，在1个磁道内形成的凸部的磁道间距方向的宽度比该磁道间距要小，并且，横跨2个相邻磁道所形成的凸部的磁道间距方向的宽度与该磁道间距大致相同。

4.一种磁复制用源载体，具有向目标介质复制信息的凹凸图案，其特征是在所述凹凸图案的凸部表面上形成有粗糙面。

5.根据权利要求4所述的磁复制用源载体，其特征是包括基板和该基板上的、所述凹凸图案的至少成为凸部的部位上所设置的软磁性层，

所述粗糙面，根据通过在所述基板的至少设置了所述软磁性层的部位上所施行的表面处理所形成的粗糙面，所形成。

6.根据权利要求4所述的磁复制用源载体，其特征是包括基板、该基板上的、所述凹凸图案的至少成为凸部的部位上涂敷的粒状物质、在该粒状物质上所形成的软磁性层，

所述粗糙面，根据所述粒状物质所涂敷的所述凸部的表面形状，所形成。

7.根据权利要求4所述的磁复制用源载体，其特征是包括基板和该基板上的、所述凹凸图案的至少成为凸部的部位上所设置的软磁性层，

所述粗糙面，根据由所述软磁性层的形成条件所控制的表面粗糙度，所形成。

8.根据权利要求4所述的磁复制用源载体，其特征是包括基板、该基板上的、所述凹凸图案的至少成为凸部的部位上所设置的多孔膜、在该多孔膜上所形成的软磁性层，

所述粗糙面，根据所述多孔膜的表面形状，所形成。

9.根据权利要求8所述的磁复制用源载体，其特征是所述多孔膜的体积比在30％到99％的范围，表面粗糙度Rp在0.0001到0.1的范围。

10.根据权利要求4所述的磁复制用源载体，其特征是所述粗糙面是具有3nm到50nm深度的凹部的凹凸面。

11.一种磁复制用源载体，具有向目标介质复制信息的凹凸图案，其特征是刚制造出来的所述凹凸图案的槽的深度在50nm到1000nm的范围，所述凹凸图案的凸部表面在制造后使用之前至少经过1次研磨之后使用。

12.一种磁复制用源载体，具有向目标介质复制信息的凹凸图案，其特征是刚制造出来的所述凹凸图案的槽的深度在50nm到1000nm的范围，所述凹凸图案的凸部表面在使用后至少经过1次研磨之后再次使用。

13.一种磁复制用源载体的使用方法，是具有向目标介质复制信息的凹凸图案的磁复制用源载体的使用方法，其特征是所述凹凸图案的凸部表面在制造后使用之前至少经过1次研磨之后使用。

14.根据权利要求13所述的磁复制用源载体的使用方法，其特征是所述凹凸图案的凸部表面根据该凸部表面的损伤程度进行研磨之后使用。

15.一种磁复制用源载体的使用方法，是具有向目标介质复制信息的凹凸图案的磁复制用源载体的使用方法，其特征是所述凹凸图案的凸部表面在使用后至少经过1次研磨之后再次使用。

16.根据权利要求15所述的磁复制用源载体的使用方法，其特征是所述凹凸图案的凸部表面根据该凸部表面的损伤程度进行研磨之后使用。