[发明专利]正型成像材料无效

专利信息
申请号: 02103198.3 申请日: 2002-01-12
公开(公告)号: CN1365025A 公开(公告)日: 2002-08-21
发明(设计)人: 国田一人;佐藤健一郎 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/038
代理公司: 北京北新智诚专利代理有限公司 代理人: 王宏伟
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 成像 材料
【权利要求书】:

1、一种正型成像材料,其特征是含有具有相当于有下述一般式(I)表示构造的单体的重复单位的树脂,

(一般式(I)中,Q1是氰基(CN),或以-COX2表示的基,X1和X2各自独立表示杂原子或卤原子。Ra、Rb各自独立表示氢原子、卤原子、氰基或有机残基,X1和X2、Ra和Rb、X1和Ra或Rb可以相互结合形成环状构造。)

2、根据权利要求1记载的正型成像材料,其特征是含有相当于具有以上述一般式(I)表示构造的单体的重复单位的树脂,在主链或支链上含有脂肪族环状构造。

3、根据权利要求1记载的正型成像材料,其特征是树脂还含有相当于具有脂肪族环状构造单体的重复单位。

4、根据权利要求1记载的正型成像材料,其特征是树脂含有相当于具有由式(I)表示构造单体的重复单位,以整个重复单位计含有5摩尔%或更多的含量。

5、根据权利要求2记载的正型成像材料,其特征是树脂含有具有脂肪族环状构造的重复单位,以整个重复单位计含有10摩尔%或更多的量。

6、根据权利要求1记载的正型成像材料,其特征是树脂含有碱溶性基团。

7、根据权利要求1记载的正型成像材料,其特征是在正型成像材料中以整个树脂量计,含有5~100wt%的树脂量。

8、根据权利要求1记载的正型成像材料,其特征是还含有光敏剂。

9、根据权利要求1记载的正型成像材料,其特征是还含有水不溶的而碱溶的树脂。

10、根据权利要求1记载的正型成像材料,其特征是式(I)中的X1和X2各自单独地表示卤原子或非金属原子。

11、根据权利要求10记载的正型成像材料,其特征是非金属原子是氧原子、硫原子、氧原子或磷原子。

12、根据权利要求10记载的正型成像材料,其特征是非金属原子具有取代基。

13、根据权利要求1记载的正型成像材料,其特征是X1表示卤原子、羟基基团、取代的氧基基团、巯基基团、取代的硫代基团、氨基基团、取代的氨基基团、磺基基团、磺化基团、取代的亚磺酰基团、取代的磺酰基团、膦酰基基团、取代的膦酰基基团、磷化基团、取代的磷化基团、硝基基团或杂环基团。

14、根据权利要求1记载的正型成像材料,其特征是X2表示卤原子、羟基基团、取代的氧基基团、巯基基团、取代的硫代基团、氨基基团、取代的氨基基团或杂环基团。

15、一种平版印刷的印刷版前体,其特征是含有成像层,该成像层含有权利要求1记载的正型成像材料。

16、一种酸分解的光敏组合物,其特征是含有光—酸产生剂,和包含相当于具有式(I)表示构造单体的重复单位的树脂。

其中Q1表示氰基基团(CN)或由-COX2表示的基团,X1和X2各自单独地表示杂原子或卤原子,Ra和Rb各自单独地表示氢原子、卤原子、氰基基团或有机残留基团;X1和X2、Ra和Rb、X1和Ra、X1和Rb每一个可以彼此连接形成环状构造。

17、一种酸分解的平版印刷的印刷版前体,其特征是含有光敏层,该层含有权利要求16中记载的酸分解的光敏组合物。

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