[发明专利]规格确定方法、投射光学系统制造方法和调节方法、曝光设备及其制造方法以及计算机系统

权利要求书

1.一种规格确定方法，利用该方法可以确定在一个光学设备内使用的投射光学系统的规格；所述的规格确定方法包括：

获取所述的光学设备所需实现的目标信息；以及

根据所述的目标信息，利用将所述的投射光学系统所需满足的波前像差量和对应于波前像差的数值中的一个作为标准来确定所述的投射光学系统的规格。

2.根据权利要求1所述的规格确定方法，其中，在确定所述的规格过程中，通过将从用于展开所述的投射光学系统中的波前的泽尔尼克多项式的各项系数中根据所述的目标信息选择出来的一个具体的项的系数作为标准来确定所述的投射光学系统的规格。

3.根据权利要求1所述的规格确定方法，其中，在确定所述的规格过程中，通过将用于展开所述的投射光学系统中的波前的泽尔尼克多项式的各项的系数的RMS值作为标准从而使得在所述的投射光学系统中的全部区域内的所述的RMS值不超过一个给定极限值来确定所述的投射光学系统的规格。

4.根据权利要求1所述的规格确定方法，其中，在确定所述的规格过程中，通过将用于展开所述的投射光学系统中的波前的泽尔尼克多项式的各项的系数作为标准从而使得所述的各个系数均不超过各个给定极限值来确定所述的投射光学系统的规格。

5.根据权利要求1所述的规格确定方法，其中，在确定所述的规格过程中，通过将用于展开所述的投射光学系统中的波前的泽尔尼克多项式各项系数中与在所述的投射光学系统区域内部观测到的具体像差对应的n阶、mθ项的系数的RMS值作为标准从而使得所述的RMS值不超过一个给定极限值来确定所述的投射光学系统的规格。

6.根据权利要求1所述的规格确定方法，其中，在确定所述的规格过程中，通过将用于展开所述的投射光学系统中的波前的泽尔尼克多项式各项中与在所述的投射光学系统区域内部观测到的具体像差对应的具有相同mθ值的每组mθ项的系数的RMS值作为标准从而使得所述的RMS值不超过一个给定极限值来确定所述的投射光学系统的规格。

7.根据权利要求1所述的规格确定方法，其中，在确定所述的规格过程中，通过将用于展开所述的投射光学系统中的波前的泽尔尼克多项式的各项系数根据所述的目标信息加权后给出的系数的RMS作为标准从而使得所述已加权的系数的RMS值不超过一个给定极限值来确定所述的投射光学系统的规格。

8.根据权利要求1到7中任何一项权利要求所述的规格确定方法，其中，所述的目标信息包括受到所述的投射光学系统投射的图形的信息。

9.根据权利要求1到7中任何一项权利要求所述的规格确定方法，其中，所述的光学设备是一个借助于所述的投射光学系统将给定的图形传递到一个基片上的曝光设备。

10.根据权利要求1到7中任何一项权利要求所述的规格确定方法，其中，在确定所述的规格过程中，根据受到所述的投射光学系统投射的图形的信息，执行一个模拟操作，该模拟操作在所述的投射光学系统用所述的图形投射时获得在成像平面上形成的一个立体图像；并且其中，分析所述的模拟结果以确定作为标准的波前像差的极限值，从而使得所述的图形被精确传递。

11.根据权利要求10所述的规格确定方法，其中，所述的模拟操作根据用于展开所述的投射光学系统中的波前的泽尔尼克多项式的各项系数相对于作为受到投射的图形的所述图形的一个具体的像差的灵敏度与用于展开所述的投射光学系统的泽尔尼克多项式的各项系数之间的线性结合关系获取所述的立体图像；所述的灵敏度取决于所述的图形。

12.一种投射光学系统制造方法，通过该方法可以制造一个在一个光学设备中应用的投射光学系统；所述的方法包括：

根据权利要求1所述的规格确定方法确定所述的投射光学系统的规格；以及

调节所述的投射光学系统以满足所述的规格。

13.根据权利要求12所述的投射光学系统制造方法，其中，在确定所述的规格过程中，通过将从用于展开所述的投射光学系统中的波前的泽尔尼克多项式的各项系数中根据所述的目标信息选择出来的一个具体的项的系数作为标准来确定所述的投射光学系统的规格。