[发明专利]液滴喷射记录装置和硅结构体的制造方法

权利要求书

1、一种液滴喷射记录装置，是叠层多个硅基板而成，从液体供给口所供给的液体到达多个个别流路，该液体从在各个别流路的前端上所形成的液体排出口作为液滴而被喷射的液滴喷射记录装置，其特征在于，

前述液体排出口由在第1硅基板的表面上形成的断面为圆弧形状的槽，和与前述第1硅基板相接触的第2硅基板来构成。

2、根据权利要求1所述的液滴喷射记录装置，其特征在于，前述槽靠对第1硅基板的湿式异向性蚀刻，和靠继续进行的反应性离子蚀刻来形成。

3、根据权利要求1所述的液滴喷射记录装置，其特征在于，在前述叠层断面上备有断面形状为矩形的液体排出口。

4、根据权利要求3所述的液滴喷射记录装置，其特征在于，断面为矩形的前述液体排出口是通过使另一个硅基板接触于用反应性离子蚀刻形成了槽的硅基板上而形成。

5、根据权利要求3或4所述的液滴喷射记录装置，其特征在于，断面形状不同的液体排出口交互排列。

6、根据权利要求3或4所述的液滴喷射记录装置，其特征在于，备有断面形状不同的液体排出口，每种同一断面形状的液体排出口连续地排列。

7、根据权利要求3～6中的任何一项中所述的液滴喷射记录装置，其特征在于，包括断面为前述圆弧形状的槽的液体排出口的开口面积大于前述断面为矩形的液体排出口的开口面积。

8、一种硅结构体的制造方法，其特征在于，通过对硅基板施行湿式异向性蚀刻，和继此施行反应性离子蚀刻，在前述硅基板上形成断面为圆弧形状的槽。