[发明专利]喷溅靶及其制造方法无效
申请号: | 02105095.3 | 申请日: | 2002-02-21 |
公开(公告)号: | CN1382828A | 公开(公告)日: | 2002-12-04 |
发明(设计)人: | 尾野直纪;林博光 | 申请(专利权)人: | 三井金属矿业株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 戈泊,程伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷溅 及其 制造 方法 | ||
1.一种喷溅靶,其特征在于,在具有a边和b边、形状比是a∶b的矩形靶中,是a<b,在喷溅面和冷却面中的至少喷溅面上具有沿大致垂直于所述b边方向排列的研磨痕。
2.如权利要求1所述的喷溅靶,其特征在于,所述研磨面的表面粗糙度Ra在2μm以下。
3.一种喷溅靶的制造方法,其特征在于,在具有a边和b边、形状比是a∶b的矩形靶的制造方法中,在a<b时,具备将喷溅面和冷却面中的至少喷溅面沿大致垂直于所述b边的方向进行研磨加工的工序。
4.如权利要求3所述的喷溅靶的制造方法,其特征在于,所述研磨面的表面粗糙度Ra在2μm以下。
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