[发明专利]负像记录材料与花青染料有效
申请号: | 02105262.X | 申请日: | 2002-01-15 |
公开(公告)号: | CN1372166A | 公开(公告)日: | 2002-10-02 |
发明(设计)人: | 中村一平;曾吕利忠弘 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/038 |
代理公司: | 北京北新智诚专利代理有限公司 | 代理人: | 陈英 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 材料 花青 染料 | ||
1.一种用于热方式曝光系统的负像记录材料,它由(A)一种包含至少在一个末端芳香环具有吸电子基团或含重原子的取代基的花青染料的红外吸收剂,(B)自由基产生剂和(C)自由基聚合化合物,其中像通过在红外射线下曝光形成。
2.一种用于热方式曝光系统的负像记录材料,它由(A’)一种下面通式(1)的红外吸收剂,(B)自由基产生剂和(C)自由基聚合化合物,其中像通过在红外射线下曝光形成:
A+-Q=B X- (1)
其中其中,A+和B表示上述式中的末端基团;R1和R2各自独立的代表任意取代的最多含有20个碳原子的烃基;Ar1和Ar2可以相同或不同,各自表示任意取代的芳香烃基或杂环基;Y1和Y2可以相同或不同,各自代表硫原子,氧原子,硒原子,最多含有12个碳原子的二烷基亚甲基,或-CH=CH-;Z1和Z2可以相同或不同,各自代表选自烃基,氧基,吸电子取代基和含重原子的取代基,并且至少其中之一是吸电子取代基或含重原子的取代基;n和m各自独立的表示0或正整数,且n和m的和至少是1;Q表示五次甲基或七次甲基,任意的由选自烷氧基,芳氧基,烷硫基,芳硫基,二烷基氨基,二芳基氨基,卤原子,烷基,芳烷基,环烷基,芳基,氧基,iminium碱和下面通式(2)中的取代基取代的基团;且Q可以是含有连续三个次甲基链的环己烯,环戊烯或环丁烯;其中R3和R4各自独立的表示氢原子,1-8个碳原子的烷基或6-10个碳原子的芳烷基;且Y3表示氧原子或硫原子。X-表示中和式(1)化合物电荷的任意存在的反荷阴离子。
3、一种用于热方式曝光系统的负像记录材料,它包含(A”)下述通式(3)的红外吸收剂,(B)自由基产生剂和(C)一种自由基聚合化合物,其中图像通过在红外线下曝光形成:其中,R5和R6独立地代表具有最多20个碳原子的直链或支链烷基,它可任意被一个芳基,链烯基,烷氧基,羟基,硫基,羧基和酰氧基取代;Ar3和Ar4各自独立地代表氢原子,具有1~4个碳原子的烷基,或具有6~10个碳原子的芳基,该烷基和芳基可任意被一个烷基,芳基和卤原子取代,且Ar3和Ar4可彼此键合;Y4和Y5可相同或不同,各自独立地代表硫原子,氧原子,硒原子,最多具有12个碳原子的二烷基亚甲基,或-CH=CH-;Z3至Z10可相同或不同,各自独立地代表氢原子,烃基,氧基,吸电子基团或含重原子的取代基,且其中至少一个是吸电子基团或含重原子的取代基,且两个相邻的Z3至Z10基团可彼此键合形成5-或6-员环;X-代表中和通式(1)化合物电荷的任意存在的反荷阴离子。
4、权利要求2的用于热方式曝光系统的负像记录材料,其中,X-选自卤素,高氯酸盐,四氟硼酸盐,六氟磷酸盐和磺酸盐。
5、权利要求2的用于热方式曝光系统的负像记录材料,其中,X-选自高氯酸盐和磺酸盐。
6、权利要求3的用于热方式曝光系统的负像记录材料,其中,X-选自卤素,高氯酸盐,四氟硼酸盐,六氟磷酸盐和磺酸盐。
7、权利要求3的用于热方式曝光系统的负像记录材料,其中,X-选自高氯酸盐和磺酸盐。
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