[发明专利]微波炉无效
申请号: | 02105341.3 | 申请日: | 2002-02-26 |
公开(公告)号: | CN1373324A | 公开(公告)日: | 2002-10-09 |
发明(设计)人: | 田井野和雄;北川裕康;田中和子;山根芳子 | 申请(专利权)人: | 三洋电机株式会社 |
主分类号: | F24C7/02 | 分类号: | F24C7/02;F24C7/08 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微波炉 | ||
技术领域
本发明涉及微波炉,特别是涉及可集中地对加热室内的特定的部位进行加热的微波炉。
背景技术
在过去的微波炉中,象日本第2894250号专利所公开的那样,可集中地对加热室内的,放置有食品的部位进行加热。具体来说,根据无遗漏地对加热室整体进行加热时的,加热室内部的温度上升的分布,确定食品的放置部位,集中地对该部位进行加热。
另外,在上述微波炉中,在判定加热室中放置有多个食品的场合,集中地对该多个食品的放置部位的中心进行加热。
发明内容
但是,在上述的微波炉中,在加热室中放置多个食品的场合,由于具有能量效率变差的可能性,故难说能够适当地进行加热。其原因在于:在这样的场合,由于还具有在作为集中地进行加热的部位的,多个食品的放置部位的中心,未放置食品的场合,故与集中地对放置有食品的部位进行加热的场合相比较,食品吸收磁控管振荡所产生的微波的效率降低。
此外,在放置多个食品的场合,如果集中地对该多个食品中的仅仅1个进行加热,则具有位于其它的部位的食品的加热不充分的可能。另外,由于逐个部位地,依次地,集中地对多个食品的放置部位进行加热,故具有烹饪时间较长的可能,同样在此场合,难说能够适当地进行加热。
本发明是针对上述的实际情况而提出的,本发明的目的在于提供下述微波炉,该微波炉即使在加热室内部的多个部位放置食品的情况下,仍可同时地适当对全部的食品进行加热。
本发明的某个方面的微波炉的特征在于其包括加热室,该加热室容纳食品;磁控管,该磁控管进行振荡而产生微波以便对上述食品进行加热;辐射天线,该辐射天线将上述磁控管所振荡而产生的微波送向上述加热室内部;天线控制部,该天线控制部交替地以下述第一模式和第二模式对上述辐射天线进行控制,该第一模式指在进行上述磁控管的加热动作时,将上述磁控管振荡而产生的微波,送向整个加热室,该第二模式指将上述磁控管振荡而产生的微波送向上述加热室的特定的部位。
由此,在微波炉中,可在集中地对放置于加热室内的特定部位的食品进行加热的同时,还可对放置于加热室内的其它部位的食品进行加热。
因此,在微波炉中,即使在加热室的多个部位放置食品的情况下,仍可同时地对全部的食品进行适当加热。
另外,最好在本发明的微波炉中,还包括放置部位确定部,该放置部位确定部确定在上述加热室内部,应集中地加热的食品的放置部位,上述特定的部位指应集中地加热的食品的放置部位。
由此,在微波炉中,由于对应于食品的放置方式,进行加热,故微波炉的方便性提高。
此外,最好本发明的微波炉还包括放置温度检测部,该温度检测部检测上述加热室内的多个部位的温度,上述放置部位确定部将进行上述磁控管的加热动作,并且按照上述第一模式对上述辐射天线进行控制时的,规定时间内的温度上升值为最高的部位,确定为应集中地加热的食品的放置部位。
由此,在微波炉中,由于确定打算集中地加热的食品的部位,故用户不必进行判断对哪个食品集中地进行加热的作业,以及将该食品的部位输入到微波炉一侧的作业。
因此,可进一步提高微波炉的方便性。
还有,最好本发明的微波炉还包括天线旋转部,该天线旋转部使上述辐射天线旋转,上述天线控制部通过由上述天线旋转部,使上述辐射天线旋转,以上述第一模式对该辐射天线进行控制,通过使该辐射天线停止于规定位置,以上述第二模式对该辐射天线进行控制。
由此,可容易地以第一模式和第二模式对辐射天线进行控制。
再有,最好在本发明的微波炉,上述天线控制部从下述整体加热模式和集中加热模式中,选择其中1个模式,对上述辐射天线进行控制,该整体加热模式指通过以上述第一模式,对上述辐射天线进行控制的方式,对上述加热室的整体进行加热,上述集中加热模式指通过交替地以上述第一模式和第二模式对上述辐射天线进行控制的方式,集中地对上述加热室的特定的部位进行加热。
由此,在微波炉中,可集中地对加热室整体,或特定的部位进行加热,并且即使在集中地对特定的部位进行加热的情况下,还可适当地对设置于特定部位以外的食品进行加热。
另外,最好本发明的微波炉还包括温度检测部,该温度检测部可检测上述加热室内的多个部位的温度,上述天线控制部在上述加热室内的,上述磁控管的加热开始时,对应于上述温度检测部检测最低温度的部位的,规定时间的温度上升值,确定是以上述整体加热模式,还是以上述集中加热模式,对上述辐射天线进行控制。
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