[发明专利]电光装置、其制造方法和电子装置无效
申请号: | 02105578.5 | 申请日: | 2002-04-15 |
公开(公告)号: | CN1381749A | 公开(公告)日: | 2002-11-27 |
发明(设计)人: | 田中千浩;露木正;金子英树 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02F1/133 | 分类号: | G02F1/133;G02F1/1343;G02F1/15;G02F1/167 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘宗杰,叶恺东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电光 装置 制造 方法 电子 | ||
1.一种电光装置,有相向配置的第一基板及第二基板,液晶被夹在该第一基板和该第二基板之间,该电光装置的特征在于:
有包围上述液晶的密封材料;以及
沿上述第一基板的一边、而且朝向与该边交叉的另一边迂回的布线,
该布线有在遍及上述密封材料的内侧区域及上述密封材料的外侧区域这两个区域中形成的、或者在遍及与上述密封材料重叠的区域及上述密封材料的外侧区域这两个区域中形成的第一布线层;以及
在上述密封材料的内侧区域或与上述密封材料重叠的区域中形成的第二布线层。
2.如权利要求1所述的电光装置,其特征在于:
位于上述密封材料的外侧区域的上述布线的一端连接在外部连接电路上。
3.如权利要求1或2所述的电光装置,其特征在于:
还有在上述第二基板上形成的电极,该电极与上述第一基板上的上述布线导通。
4.一种电光装置,其特征在于:
有第一基板、以及
沿该第一基板的一边、而且朝向与该边交叉的另一边迂回的布线,
该布线有在上述第一基板上形成的第一布线层;
局部地层叠在该第一布线层上的第二布线层;以及
覆盖该第二布线层的覆盖层。
5.如权利要求1至4中的任意一项所述的电光装置,其特征在于:
备有通过将第一金属膜、绝缘膜、以及第二金属膜层叠在上述第一基板上形成的多个薄膜二极管,
利用与构成上述第一金属膜为同一层的层形成上述第一布线层。
6.如权利要求1至5中的任意一项所述的电光装置,其特征在于:
利用与上述第二金属膜为同一层的层形成上述第二布线层。
7.如权利要求1至4中的任意一项所述的电光装置,其特征在于:
备有通过将第一金属膜、绝缘膜、以及第二金属膜层叠在上述第一基板上形成的多个薄膜二极管,
利用与上述第二金属膜为同一层的层形成上述第二布线层。
8.如权利要求1至3中的任意一项所述的电光装置,其特征在于:
有通过将第一金属膜、绝缘膜、以及第二金属膜层叠在上述第一基板上形成的多个薄膜二极管,以及
连接在该薄膜二极管的第二金属膜上的像素电极,
上述布线有在遍及上述密封材料的内侧区域及上述密封材料的外侧区域这两个区域中在上述第一布线层上形成的、或者在遍及与上述密封材料重叠的区域及上述密封材料的外侧区域这两个区域中在上述第一布线层上形成的第三布线层,
利用与上述像素电极为同一层的层形成该第三布线层。
9.如权利要求1至3中的任意一项所述的电光装置,其特征在于:
有在上述第二基板上形成的布线,
上述第一基板上的布线与上述第二基板上的布线导通。
10.如权利要求9所述的电光装置,其特征在于:
上述第一基板上的布线和上述第二基板上的布线通过分散在上述密封材料中的导电粒子导通。
11.如权利要求1至10中的任意一项所述的电光装置,其特征在于:
构成上述第一基板上的上述布线的上述第二布线层比构成该布线的其他布线层的离子化倾向高。
12.如权利要求1至11中的任意一项所述的电光装置,其特征在于:
构成上述第一基板上的上述布线的上述第二布线层比构成该布线的其他布线层的电阻值低。
13.如权利要求1至12中的任意一项所述的电光装置,其特征在于:
在上述第一基板上形成的布线中在上述密封材料的外侧区域形成的部分的宽度比在与上述密封材料重叠的区域中形成的部分的宽度宽。
14.一种电子装置,其特征在于:
具有权利要求1至13中的任意一项所述的电光装置。
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