[发明专利]采用改进的化学气相沉积制备大容量光纤预制件的方法

权利要求书

1.一种制备光纤预制件(3)的方法，它包括以下几个工艺步骤：

-制备二氧化硅沉积管(22)，此二氧化硅掺杂了足够量的氯以便得到低于100ppb的OH基浓度，还掺杂了与足够的氯掺杂量成比例的一定量的氟以便得到低于天然二氧化硅的折射率；

-在沉积管内部沉积内包层(21)及光芯(20)；

-使沉积管缩径成初始预制件(24)；以及

-在制得的初始预制件上沉积所述天然二氧化硅的外包层(26)。

2.根据权利要求1所述的方法，其中沉积管掺杂氟的总份数为0.25XCl＜XF＜4XCl。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中制成的预制件b∶a比大于2。

4.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中天然二氧化硅是α石英。

5.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中所述掺杂沉积管的折射率小于其值在0.25×10^-3-1.5×10^-3之间的天然二氧化硅折射率。

6.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中沉积外包层是利用等离子体辅助沉积法进行的。

7.一种制备光纤(15)的方法，它包括根据上述权利中任一项制取的预制件(3)的热拉伸工艺步骤。