[发明专利]多层膜成膜方法、真空成膜装置及其控制装置

说明书

                          技术领域

本发明涉及多层膜成膜方法、真空成膜装置的控制装置及真空成膜装置。

                          背景技术

通常，真空成膜装置在真空腔内设有形成膜的基板及与基板相对设置的用于蒸发膜的原料(材料)的蒸发源。并且，由蒸发源蒸发的膜的原料最终作为膜析出到所述基板上，由此进行成膜。

用于蒸发所述膜的原料的蒸发源有下述蒸发源，其具有电子枪，利用该电子枪将电子束照射在膜的原料上进行加热，朝向基板蒸发膜的原料。

在使用电子枪加热膜的原料时，在执行朝向基板蒸发膜的原料的主加热工序(工艺)的同时，有时在该主加热工序之前还要进行预热膜的原料的预加热工序。也就是说，通过在上述主加热工序之前对膜的原料进行预热，在其后的主加热工序，可更快速顺畅地蒸发膜的原料。

在通过用电子枪蒸发膜的原料进行成膜时，有时也形成两层以上的膜构成的多层膜。该多层膜用作要求各种光学特性的光学膜。多层膜有时也用作光通信用光学薄膜，当前尤其是在IT(信息通讯技术)领域的用途的需要激增。

而在将多层膜应用于各种用途时，有时膜的层数成为重要的条件。例如，如果是将多层膜作为光通讯中波长多重传送系统的光学薄膜使用的情况，则有时透过的光的波长区域要由多层膜的层数决定。

因此，在形成上述多层膜时，关于用电子枪加热膜的原料的工序，也可以如下进行：在一层的预热工序及主加热工序结束后，进行之后要形成的另一层的预热工序及主加热工序，这样对每一层反复进行预热工序及主加热工序。

但是，在一层的预热工序及主加热工序结束后，进行之后要形成的另一层的预热工序及主加热工序，这种情况下，是由合计每层的预热工序所需时间和主加热工序所需时间所得出的时间决定完成成膜的时间。因此，随着构成多层膜的层数的增加，完成成膜所需的时间显著增加，导致所谓生产节拍时间的增加。

                          发明内容

本发明的目的在于提供一种多层膜成膜方法、真空成膜装置的控制装置及真空成膜装置，可以通过使用电子枪进行膜的原料的预热工序和主加热工序，同时，防止完成成膜所需时间的增加。

为了解决上述问题，本发明的多层膜成膜方法实质上是在真空腔内，通过利用多个电子枪蒸发多个膜材料，从而在基件上依序层积多层的膜而形成多层膜的成膜方法，形成所述多层膜的每一层的膜形成工序包括用所述电子枪蒸发各膜对应的膜材料的主加热工序和在该主加热工序之前预热所述各膜对应的膜材料的预热工序，互为前后的至少两个所述膜形成工序中，在先进行的膜形成工序的主加热工序结束前，开始进行后进行的膜形成工序的预热工序。

采用这种结构，则在形成多层膜时，在用于形成某一膜的主加热工序的进行结束前，开始进行用于形成之后要形成的膜的预热工序。因此，在按要形成的层数反复进行预热工序及主加热工序时，可缩短形成所有的层所需的时间。

所述多层的膜可形成100层以上。根据本发明的成膜方法，即使在将多层膜形成100层以上时，也可以短时间完成成膜。

所述多层的膜可以是光通讯用光学薄膜。光通讯用光学薄膜由多层膜形成，根据本发明，即使在形成该光学薄膜用多层膜时，也可短时间完成成膜。

本发明的真空成膜装置的控制装置实质上是在真空腔内，通过利用电子枪蒸发多个膜材料，从而在基件上依序层积多层的膜而形成多层膜的真空成膜装置的控制装置，形成所述多层膜的每一层的膜形成工序包括用所述电子枪蒸发各膜对应的膜材料的主加热工序和在该主加热工序之前预热所述各膜对应的膜材料的预热工序，在互为前后的至少两个所述膜形成工序中，控制所述真空成膜装置，使在先进行的膜形成工序的主加热工序结束前，开始后进行的膜形成工序的预热工序。

若采用这种结构，则可提供可在得到多层膜时缩短形成所有的层所需的时间的真空成膜装置的控制装置。

本发明的真空成膜装置实质上是在真空腔内，通过利用电子枪蒸发多个膜材料，从而在基件上依序层积多层的膜而形成多层膜的真空成膜装置，形成所述多层膜的每一层的膜形成工序包括用所述电子枪蒸发各膜对应的膜材料的主加热工序和在该主加热工序之前预热所述各膜对应的膜材料的预热工序，互为前后的至少两个所述膜形成工序中，在先进行的膜形成工序的主加热工序结束前，开始后进行的膜形成工序的预热工序。

若采用这种结构，则可提供可在得到多层膜时缩短形成所有的层所需的时间的真空成膜装置。

                         附图说明