[发明专利]图案形成体的制造方法以及用于其中的光掩膜

权利要求书

1、一种图案形成体的制造方法，其特征在于，具有图案形成体用基板调制工序和图案形成工序，其中，上述图案形成体用基板调制工序是调制具有特性变化层的图案形成体用基板的工序，该特性变化层的表面特性通过光催化剂的作用发生变化，上述图案形成工序是设置在基材上形成含有光催化剂的光催化剂含有层而成的光催化剂含有层侧基板的光催化剂含有层和上述特性变化层，使它们的间隙为200μm以下，然后由给定的方向照射能量，从而在上述特性变化层表面形成特性发生了变化的图案。

2、如权利要求1所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，设置上述光催化剂含有层和上述特性变化层，使它们的间隔在0.2μm～10μm的范围内。

3、如权利要求1或2所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，上述光催化剂含有层侧基板由基材和在上述基材上形成图案状的光催化剂含有层组成。

4、如权利要求1或2所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，上述光催化剂含有层侧基板由基材、在上述基材上形成的光催化剂含有层和形成图案状的遮光部组成，上述图案形成工序中的能量照射由光催化剂含有层侧基板进行。

5、如权利要求4所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，在上述光催化剂含有层侧基板中，上述遮光部在上述基材上形成图案状，再在其上形成上述光催化剂含有层。

6、如权利要求4所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，在上述光催化剂含有层侧基板中，在上述基材上形成光催化剂含有层，在上述光催化剂含有层上图案状地形成上述遮光部。

7、如权利要求2所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，上述光催化剂含有层侧基板中，在上述光催化剂含有层上图案状地形成厚度在0.2μm～10μm范围内的隔板，使上述隔板与上述特性变化层接触、曝光。

8、如权利要求7所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，上述隔板为用遮光性材料形成的遮光部。

9、一种图案形成体的制造方法，其特征在于，设置光催化剂含有层侧基板和图案形成体用基板，其中，上述光催化剂含有层侧基板是在透明的基材上图案状地形成了遮光部的光掩膜上通过底涂层形成光催化剂含有层得到的，上述图案形成体用基板至少具有通过上述光催化剂含有层中光催化剂的作用特性发生变化的特性变化层，使上述光催化剂含有层和上述图案形成体用基板接触，或者隔开上述光催化剂含有层的光催化剂的作用达到上述特性变化层的距离，设置上述光催化剂含有层侧基板，然后照射能量，使照射部分的特性变化层的特性发生变化，接着，取下光催化剂含有层侧基板，从而形成特性发生了变化的图案。

10、如权利要求9所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，上述光催化剂含有层的光催化剂的作用达到上述特性变化层的距离在0.2μm～10μm的范围内。

11、如权利要求1至10中任意一项所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，上述光催化剂含有层是由光催化剂构成的层。

12、如权利要求11所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，上述光催化剂含有层是通过真空成膜法在基材上使光催化剂成膜而成的层。

13、如权利要求1至10中任意一项所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，上述光催化剂含有层是具有光催化剂和粘接剂的层。

14、如权利要求1至13中任意一项所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，上述光催化剂为选自氧化钛(TiO₂)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO₂)、钛酸锶(SrTiO₃)、氧化钨(WO₃)、氧化铋(Bi₂O₃)和氧化铁(Fe₂O₃)的1种或2种以上的物质。

15、如权利要求14所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，上述光催化剂为氧化钛(TiO₂)。

16、如权利要求1至15中任意一项所述的图案形成体的制造方法，其特征在于，上述图案形成体用基板至少由基板和在该基板上设置的上述特性变化层形成。