[发明专利]低泡沫N-烷基酒石酰亚胺和N-烷基苹果酰亚胺湿润剂无效

专利信息
申请号: 02108509.9 申请日: 2002-03-28
公开(公告)号: CN1379068A 公开(公告)日: 2002-11-13
发明(设计)人: I·K·梅尔;K·R·拉斯拉;C·S·斯朗 申请(专利权)人: 气体产品与化学公司
主分类号: C09D7/00 分类号: C09D7/00;A01N25/30;C09J11/06;C11D1/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王其灏
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 泡沫 烷基 酒石 亚胺 苹果 湿润剂
【说明书】:

                      技术领域

发明涉及N-烷基酒石酰亚胺和N-烷基苹果酰亚胺用来降低水基体系中表面张力的用途。

                      背景技术

在水性涂料、油墨、粘合剂、缓冲溶液和农用制剂中,降低水表面张力的性能极为重要,因为在实际制剂中降低表面张力可增强基体的湿润性。在水基体系中表面张力的降低通常是通过加入表面活性剂实现的。由加入表面活性剂所导致的性能特性包括增强表面覆盖、更少的缺陷和更均匀的分布。当含水体系静止时,平衡表面张力性能是表面活性剂降低含水体系表面张力能力的重要量度。

传统的非离子表面活性剂,如烷基酚或脂肪醇乙氧基化物和环氧乙烷(EO)/环氧丙烷(PO)共聚物,以及阴离子表面活性剂,如二烷基磺基琥珀酸钠,具有良好的平衡表面张力性能。但是,许多这些表面活性剂是起泡沫的,这可以导致在诸如涂料、油墨、粘合剂、缓冲溶液、农用制剂、电子化学药品、洗涤制剂以及其它应用中出现问题,即泡沫可能引起表面缺陷、粘着性差和操作困难。另外,阴离子表面活性剂会造成制成的涂层具有水敏感性。

除了开发高性能表面活性剂之外,在工业中还需要具有改善环境特性的表面活性剂。对环境的关注导致了与环境兼容的表面活性剂作为其实可行的替代品的使用增加。另外,较差的产品,如烷基酚乙氧基化物(APE)表面活性剂的使用已经减少了,这一部分是因为APE表面活性剂不良的环境特性,如不完全生物降解和对它们可能起内分泌仿制品作用的怀疑。对高性能、生态友好的表面活性剂的需求已经激发了在开发新表面活性剂方面的努力。由这项工作,一族被称为烷基聚苷(APG)表面活性剂的新表面活性剂已经出现,其作为传统表面活性剂的易于生物降解、环境友好的替代品。这些物质起泡沫,因而不适用于许多涂料、油墨、粘合剂、缓冲溶液、农用和电子化学药品以及洗涤应用,在这些应用中泡沫的产生是不合要求的。

因此,不仅希望得到表现出极好降低表面张力能力和低泡沫的表面活性剂,而且强烈期望这种新表面活性剂是对环境友好的。另外,由于对环境友好的表面活性剂的发展具有实际意义,一个基本的特征将是这些新表面活性剂不仅具有上述所希望的性能特性,而且它们来自于自然存在的化合物或它们的合成同等物。

在如涂料、油墨、粘合剂、农用制剂、电子化学药品和洗涤应用中,降低表面张力的重要性在本领域中得到了很好的评价。当人们想湿润低能量或被污染的基体时,降低水介质表面张力而不产生泡沫的能力是关键。在1990年英国剑桥:皇家化学学会D.R.Karsa编辑的《水基涂料用添加剂》(Additives for Water-basedCoatings)第1-29页,J.C.Padget的题为“水基涂料用添加剂—一位聚合物化学家的观点”(Additives for Water-based Coatings-APolymer Chemist’s View)的文章中,强调了为了在诸如塑料和油性钢这样的低能量材料上得到湿润,表面活性剂在降低含水体系表面张力的重要性。  

在图表印刷艺术中,众所周知表面活性剂降低水介质的表面张力,从而有助于在诸如塑料、铜版纸、涂层卡片纸板和金属薄片这样的较低能量基体上印刷,并有助于湿润颜料以产生分散。在1990年Marcel Dekker股份有限公司的《在分散中:表征、试验和测量》(In Dispersions:Characterization,Testing,andMeasurement)中,有完整的一章涉及可湿性和降低表面张力以使空气从小颜料颗粒周围转移并允许在颜料表面湿润和扩散的必要性的课题。人们知道表面活性剂起到湿润剂的作用,用来浸湿胶印中印刷版的疏水区域(R.Kubler,″Printing Inks,″in Ullmann’sEncyclopedia of Industrial Chemistry,Vol.A22,1993,pp.143-156),以及某些表面活性剂已有益于减少曲面印刷和轮转凹版印刷术印刷油墨的油墨缓冲剂中泡沫的产生(R.W.Bassemir,et al.″Inks,″in Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology,4thEdition,Vol.14,pp.482-503)。

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