[发明专利]光偏转光学系统无效

专利信息
申请号: 02108579.X 申请日: 2002-04-03
公开(公告)号: CN1379263A 公开(公告)日: 2002-11-13
发明(设计)人: 宗和健;井上望;铃木隆史 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 陈景峻,叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 偏转 光学系统
【权利要求书】:

1.一种光偏转光学系统,对旋转轴平行,以其旋转轴为中心,面向旋转或振动的偏转反射面配置2枚固定平面镜,入射前述偏转反射面,反射的光束在前述2枚固定平面镜上顺序反射,其反射的光束再入射前述偏转反射面反射的光偏转光学系统内,其构成的特征为,在对与包含最初入射前述偏转反射面的光束的前述旋转轴平行的面取作入射平面时,前述2枚固定平面镜对前述入射平面相互垂直具有间隙地配置,最初入射前述偏转反射面的光束通过前述2枚固定平面镜之间的间隙,入射,在前述偏转反射面上第2次反射的偏转光束通过前述2枚固定平面镜之间的间隙射出。

2.根据权利要求1所述的光偏转光学系统,其特征为,

令在前述入射平面内包含前述偏转光束的位置上的前述偏转反射面上最初入射的光束对前述偏转反射面的入射角为θ1,在前述偏转反射面上第2次反射的偏转光束的射出度为θ2,则其构成是这样的,以便满足关系:

0.92≤(θ2/θ1)≤1.25...(16)

3.根据权利要求1所述的光偏转光学系统,其特征为,

令由于前述偏转反射面因前述旋转轴的出入产生的,包含前述旋转轴的断面内的前述射出光束的偏移量为Y,由被扫描面之间的光学系统产生的、与其偏移量Y对应的被扫描面上的扫描点对前述偏转反射面的第2次反射点的偏移量为Y′,取β′=Y′/Y,当前述被扫描面上的扫描线间距为LP时,单位取mm,其构成是这样的,以便满足关系:

0.1·|β′·(sinθ1-sinθ2)|≤0.25·LP...(21)

4.根据权利要求3所述的光学偏转光学系统,其特征为,

再取单位为mm,其构成是这样的,以便满足关系:

0.1·|β′·(sinθ1-sinθ2)|≤0.125·LP...(22)

5.根据权利要求1到4之一所述的光偏转光学系统,其特征为,其构成是这样的,以便满足θ1∶θ2=1∶1的关系。

6.一种图像形成装置,其特征为,可以把根据权利要求1到5之一所述的光偏转光学系统用于图像写入曝光。

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