[发明专利]模糊控制电热膜敷膜工艺无效
| 申请号： | 02109260.5 | 申请日： | 2002-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN1380443A | 公开（公告）日： | 2002-11-20 |
| 发明（设计）人： | 何平 | 申请（专利权）人： | 何平 |
| 主分类号： | C23C18/02 | 分类号： | C23C18/02 |
| 代理公司： | 大连非凡专利事务所 | 代理人： | 闪红霞 |
| 地址： | 116021 辽宁省大*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 模糊 控制 电热 膜敷膜 工艺 | ||
1.一种模糊控制电热膜敷膜工艺，包括如下步骤：
a.将基材置于加热的敷膜窑内；
b.按预定的温度及电热膜成膜效率对基材喷膜；
c.适时检测基材温度并将检测结果送至单片机；
d.单片机适时输出控制电热膜成膜效率的信号；
e.结束喷膜，取出敷有电热膜的基材。
2.根据权利要求1所述的一种模糊控制电热膜敷膜工艺，其特征在于：所述的c步骤还包括检测成膜厚度，并将检测结果送至单片机。
3.根据权利要求1或2所述的模糊控制电热膜敷膜工艺，其特征在于：所述的c步骤还包括检测敷膜窑内的压力并将检测结果送至单片机。
4.根据权利要求1或2所述的模糊控制电热膜敷膜工艺，其特征在于：所述的d步骤为单片机输出控制喷膜枪与基材之间距离的信号。
5.根据权利要求1或2所述的模糊控制电热膜敷膜工艺，其特征在于：所述的d步骤为单片机输出控制基材运动速度的信号。
6.根据权利要求1或2所述的模糊控制电热膜敷膜工艺，其特征在于：所述的d步骤为单片机输出控制电热膜液体喷射流量的信号。
7.根据权利要求4所述的模糊控制电热膜敷膜工艺，其特征在于：所述的d步骤为单片机还输出控制基材运动速度的信号。
8.根据权利要求4所述的模糊控制电热膜敷膜工艺，其特征在于：所述的d步骤为单片机还输出控制电热膜液体喷射流量的信号。
9.根据权利要求7所述的模糊控制电热膜敷膜工艺，其特征在于：所述的d步骤为单片机还输出控制电热膜液体喷射流量的信号。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
