[发明专利]无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极无效
申请号: | 02116687.0 | 申请日: | 2002-04-16 |
公开(公告)号: | CN1397660A | 公开(公告)日: | 2003-02-19 |
发明(设计)人: | 杨会生;王燕斌;熊小涛 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 北京科大华谊专利代理事务所 | 代理人: | 刘月娥 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 屏蔽 铁磁性 溅射 阴极 | ||
1、一种磁控溅射阴极,由法兰(28)、密封胶圈(26)、固定螺栓孔(27)、基片(37)组成;其特征在于:法兰(28)安装于真空室壁上,在法兰(28)上有密封胶圈(26)和固定螺栓孔(27),基片(37)置于阴极上方进行溅射镀膜;对于具有轴对称的圆形磁控溅射阴极,铁磁性靶材由中心圆形靶材(21’)和外侧环型靶材(21)组成,可采用3-20mm厚的靶材;中心圆形靶材与外侧环形靶材之间有5-60mm的间隙,溅射在间隙附近发生;靶材(21,21’)、磁极(22,22’)、磁铁(23,23’)和磁极背板(38)构成闭合磁路;其中磁极和磁极背板采用高饱和磁化强度材料;靶体(33)采用具有良好导热性的材料制造,在靶体内构造出冷却水道(39);
2、按照权利要求1所述的磁控溅射阴极,其特征在于:磁极和磁极背板采用高饱和磁化强度材料,可以由纯铁或磁性不锈钢制造,磁铁可采用永磁铁氧体、钕铁硼或其他永磁材料制造。
3、按照权利要求1所述的磁控溅射阴极,其特征在于:阴极的结构不限于具有轴对称的圆形结构,可以将上述结构沿垂直于对称轴的任意方向进行延伸,使得阴极具有“口”形或矩形结构,其长度方向可以在机械加工可实现的情况下延长,尺寸范围为80-2000mm,这样的阴极可以用来镀制大面积平板工件。
4、一种如权利要求1所述的磁控溅射阴极的溅射方法,其特征在于:在溅射过程中,等离子体中的离子对靶材表面的轰击,将有大量的热能产生,为了使磁控溅射阴极能够长时间稳定工作,必须对靶材(21,21’)、磁极(22,22’)和磁铁(23,23’)等部件进行有效的冷却,以保证阴极各部件不被烧毁;为此采用具有良好导热性的材料制造靶体(33),在靶体内构造出冷却水道(39);冷却水由进水口(31)流入冷却水道内,进行充分热交换后由出水口(31’)流出;利用靶体与靶材、磁极和磁体的接触将上述部件进行冷却。
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