[发明专利]研磨液组合物有效
| 申请号： | 02118591.3 | 申请日： | 2002-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN1384170A | 公开（公告）日： | 2002-12-11 |
| 发明（设计）人： | 大岛良晓 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 范征 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨液组合物，其特征在于它含有磨料、氧化剂、作为研磨促进剂的有机膦酸和水。
2.如权利要求1所述的研磨液组合物，其特征在于磨料选自二氧化硅、氧化铈、氧化锆及氧化钛。
3.如权利要求1所述的研磨液组合物，其特征在于磨料为胶体二氧化硅，氧化剂为过氧化氢。
4.如权利要求1～3任一项所述的研磨液组合物，其特征在于该组合物用于研磨磁盘基板。
5.一种基板制造方法，其特征在于该方法包括用权利要求1～4任一项所述的研磨液组合物研磨被研磨基板的步骤。
6.如权利要求5所述的基板制造方法，其特征在于被研磨基板是磁盘用基板。
7.用权利要求1～4任一项所述的研磨液组合物研磨被研磨基板的方法。
8.一种减少被研磨基板微小擦伤的方法，其特征在于该方法包括用权利要求1～4任一项所述的研磨液组合物研磨被研磨基板的步骤。
9.一种促进磁盘用基板的研磨的方法，其特征在于使用权利要求1～4任一项所述的研磨液组合物。
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