[发明专利]均苯四酸二酐的生产方法无效
| 申请号： | 02119166.2 | 申请日： | 2002-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN1385433A | 公开（公告）日： | 2002-12-18 |
| 发明（设计）人： | 中原健二;高桥典;高宫重贵 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本触媒 |
| 主分类号： | C07D493/04 | 分类号： | C07D493/04;//C07D493/04;30700;30700 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢新华,罗才希 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 均苯四酸二酐 生产 方法 | ||
【权利要求书】：
1、一种用于制备均苯四酸二酐晶体的方法，其特征在于在温度不高于120℃的条件下，在处理均苯四酸二酐晶体时使用的气氛的水含量设定在不高于4体积％水平。
2、根据权利要求1所述的方法，其中采用反升华技术，从含有均苯四酸二酐的气体中沉淀出晶体。
3、根据权利要求1所述的方法，其中加入水含量不高于4体积％的惰性气体，调节在温度不高于120℃的条件下处理均苯四酸二酐晶体时所使用的气氛。
4、根据权利要求2所述的方法，其中通过用含有分子氧的气体催化气相氧化四烷基苯来调节含有均苯四酸二酐的气体。
5、根据权利要求4所述的方法，其中四烷基苯是1，2，4，5-四甲基苯或1，2，4，5-四乙基苯。
6、一种通过冷却由催化气相氧化反应得到的含有均苯四酸二酐的气体，从而导致均苯四酸二酐晶体沉淀，以生产均苯四酸二酐晶体的方法，该方法的特征在于在温度不高于120℃的条件下，在处理均苯四酸二酐晶体时使用的气氛的水含量设定在不高于4体积％水平。
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