[发明专利]等离子体显示板的制造方法

说明书

                             技术领域

本发明涉及新的等离子体显示板制造方法，更具体地，在该等离子体显示板制造方法中，低成本地形成高精度隔壁、电极、电阻、电介质、荧光体、滤色片及黑基质中的至少一种。

                             背景技术

等离子体显示板(以下称PDP)具有和阴极射线管显示器同等的发光亮度，结构较简单，能使装置小型化且能容易地制作超过20英寸的显示装置。近年来，它受到了关注并已有许多研究。PDP是这样一种显示装置：其对向配置的基板表面设有许多由绝缘材料构成的隔壁(barrier rib)，划分成多个显示单元，这些单元内有荧光体，将由电极间的等离子体放电而产生的紫外光作用于荧光体，使其发光，成为显示单位。为了使荧光物质发光，基板、单元内设有电极、电阻、电介质，此外，为了彩色显示，还设有滤色片和黑基质。形成这些隔壁、电极、电阻、电介质、荧光体、滤色片和黑基质(以下称隔壁等)的方法主要有以下二种：一种是将含非光敏无机粒子的胶组合物丝网印刷到基板上，形成图像后进行焙烧；另一种是光蚀法，即，在基板上形成含光敏无机粒子的胶组合物层，借助光掩膜进行紫外线等的照射，显像，使图像残留在基板上，再将其焙烧。但是，丝网印刷法的缺点是，单层厚度薄，需要印刷多层，所以，图像位置的精度差，难以制造大型的高精细的PDP。光蚀法的缺点是，形成隔壁等的成膜材料层较厚，因此，在纵深方向上的灵敏度不够，不能形成轮廓鲜明的高精细图像。为了克服目前制造PDP中的这些缺点，例如，日本特许公开公报2000年第7383号公开了这样一种PDP的制造方法：将成膜材料层转移到基板上，在其上面形成抗蚀膜，通过曝光处理形成抗蚀图像，接着将该图像作为光掩膜进行蚀刻处理，在成膜材料层上形成图像，再焙烧。但该方法操作工序增加，成本上升，而且，将成膜材料转移到基板上后，因为成膜材料层有粘性，剥离承载膜时，成膜材料层上会留下痕迹(剥离痕)。

                             发明内容

鉴于这些情况，本发明者经过潜心研究，结果发现，将形成在承载膜上的光敏胶组合物层转移到基板上，曝光处理后除去承载膜，就可得到无剥离痕的成膜材料层，将其焙烧，能容易地制得高精度的隔壁等，并由此完成了本发明。

即，本发明的目的是，提供一种低成本地制造具有高精度隔壁等的PDP。

为达到上述目的，本发明的等离子体显示板的制造方法的特征在于，将形成在承载膜上的光敏胶组合物层转移到基板上，曝光处理后除去承载膜，再焙烧，形成隔壁、电极、电阻、电介质、荧光体、滤色片和黑基质中的至少一种。

以下详细说明本发明。

形成在承载膜上的光敏胶组合物层只要对曝光处理中所用的紫外线、准分子激光、X射线、电子束(以下称光线等)的有所需的透明性且用光蚀法能形成高精度的图像即可，无特别限定。例如可以是日本特许公开公报2000年第268633号、第53444号和1999年第246638号记载的含有无机粉末、粘结无机粉末的树脂、丙烯酸系粘合树脂和溶剂的光敏胶组合物以及含有水溶性纤维素衍生物、光聚合单体、有羟基的丙烯酸树脂、光聚合引发剂(以下将水溶性纤维素衍生物、光聚合单体、有羟基的丙烯酸树脂及光聚合引发剂称为有机成分)和无机粉末的水显像型光敏胶组合物等。尤其是水显像型光敏胶组合物，其光透过率高，即使有机成分多，也能维持高透光率，用光蚀法能形成高精度的图像，而且，由于是用水显像，所以使用方便。

上述有机成分中的光聚合单体可以是任何公知的化合物，无特别限定，例如可以是乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸甘油酯、甲基丙烯酸甘油酯、碳化环氧二丙烯酸酯，以及这些化合物中的(甲基)丙烯酸替换成富马酸、衣康酸、马来酸的化合物等。