[发明专利]高压处理装置

权利要求书

1.一种高压处理装置，在加压下使被处理体接触高压流体和高压流体以外的药液，去除被处理体上的无用物质，其特征在于，具有：

多个高压处理室；

对各高压处理室提供高压流体的公共高压流体提供单元；

对各高压处理室提供药液的公共药液提供单元；

从处理完上述被处理体后上述高压处理室排出的高压流体和药液的混合物中分离气体成分的分离单元。

2.如权利要求1所述的高压处理装置，其特征在于，

在高纯度室内至少设置多个高压处理室，在高纯度室外至少设置高压流体提供单元。

3.如权利要求1或2所述的高压处理装置，其特征在于，

在高纯度室内设置多个高压处理室，在高纯度室外设置高压流体提供单元、药液提供单元和分离单元。

4.如权利要求2或3所述的高压处理装置，其特征在于，

连结分离单元和高压流体提供单元，同时在分离单元和高压流体提供单元之间配设液化单元，将液化单元设置在高纯度室外。

5.如权利要求2～4中任一项所述的高压处理装置，其特征在于，

在药液提供单元和各高压处理室之间，对各高压处理室配设控制药液提供量的药液提供控制单元，同时在各药液提供控制单元和各高压处理室之间分别配设用于混合高压流体和药液的混合单元，在高纯度室内设置各药液提供控制单元和各混合单元。

6.如权利要求5所述的高压处理装置，其特征在于，

上述混合单元通过规定高压流体和药液的流向并合流来混合高压流体和药液。

7.如权利要求2～6中任一项所述的高压处理装置，其特征在于，

对各高压处理室配设加热单元，将加热单元设置在高纯度室内。

8.如权利要求1～7中任一项所述的高压处理装置，其特征在于，

对各高压处理室分别设置分离单元。

9.如权利要求4～8中任一项所述的高压处理装置，其特征在于，

设置将在液化单元液化的流体作为不含无用物质的高压流体返回到分离单元的返回单元。

10.如权利要求1～9中任一项所述的高压处理装置，其特征在于，

对各高压处理室分别设置第1分离单元，同时在这些第1分离单元的下游设置各高压处理室公用的第2分离单元。

11.如权利要求10所述的高压处理装置，其特征在于，

设置将在液化单元液化的流体作为不含无用物质的高压流体返回到第2分离单元的返回单元。

12.如权利要求1～11任一项所述的高压处理装置，其特征在于，

高压流体提供单元具有高压流体用媒体贮槽、该贮槽下游的升压单元、和该升压单元下游的加热单元，形成可以将升压单元升压的高压流体的至少一部分从加热单元的上游侧返回到高压流体用贮槽的环流路。

13.如权利要求1～9中的任一项或12所述的高压处理装置，其特征在于，

高压流体提供单元具有高压流体用媒体贮槽、该贮槽下游的升压单元、和该升压单元下游的加热单元，形成将从升压单元经加热单元导出的高压流体的至少一部分送给分离单元的旁路。

14.如权利要求10～12中任一项所述的高压处理装置，其特征在于，

高压流体提供单元具有高压流体用媒体贮槽、该贮槽下游的升压单元、和该升压单元下游的加热单元，形成将从升压单元经加热单元导出的高压流体的至少一部分送给第1分离单元和第2分离单元的至少一方的旁路。