[发明专利]用于加热衬底的方法无效
申请号: | 02120077.7 | 申请日: | 2002-05-24 |
公开(公告)号: | CN1389592A | 公开(公告)日: | 2003-01-08 |
发明(设计)人: | H·埃格尔特;A·昆克尔;J·沃格特;R·梅耶尔;P·韦纳 | 申请(专利权)人: | 肖特玻璃制造厂 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;C23C16/46 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曾祥凌,林长安 |
地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 加热 衬底 方法 | ||
1.一种用于加热衬底的方法,其中
a)要被涂覆的衬底的要被涂覆的表面被放置在加热装置上,所述加热装置用玻璃陶瓷板盖住,并具有和所述衬底匹配的槽,
b)所述衬底从下方被加热到进行涂覆所需的处理温度,以及
c)所述衬底从加热装置上被除去,并被引入涂覆室内进行涂覆。
2.如权利要求1所述的方法,其中在玻璃陶瓷板中的槽具有衬底保持器。
3.如权利要求1或2所述的方法,其中所述玻璃陶瓷板包括至少两个板,它们被宽松地相互叠置,所述两个板具有不同的开口。
4.如权利要求1至3至少一个所述的方法,其中在加热装置的内部区域内的温度范围是从500℃到800℃
5.如权利要求1至4至少一个所述的方法,其中所述衬底被涂覆至少一层。
6.如权利要求1至5至少一个所述的方法,其中所述涂覆包括以下处理中的至少一个:CVD(化学蒸汽淀积),PVD(物理蒸汽淀积),PECVD(等离子体增强的化学蒸汽淀积),PICVD(等离子体脉冲化学蒸汽淀积),LPCVD(低压化学蒸汽淀积)或TCVD(热化学蒸汽淀积)。
7.一种用于加热衬底的装置,其中所述加热装置被玻璃陶瓷板覆盖,并具有和所述衬底匹配的槽。
8.如权利要求7所述的装置,其中在玻璃陶瓷板中的槽具有衬底保持器。
9.如权利要求7或8所述的装置,其中所述加热装置包括至少两个板,它们被宽松地相互叠置,并且所述两个板具有不同的开口。
10.如权利要求7至9至少一个所述的装置,其中所述热辐射器是红外高温辐射器。
11.一种用于加热衬底的装置的用途,所述衬底在加热之后被涂覆。
12.一种用于加热玻璃衬底的装置的用途。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于肖特玻璃制造厂,未经肖特玻璃制造厂许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02120077.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的