[发明专利]将等离子体显示板复位以提高对比度的方法无效

专利信息
申请号: 02122813.2 申请日: 2002-06-04
公开(公告)号: CN1389841A 公开(公告)日: 2003-01-08
发明(设计)人: 金俊九;崔学起;李性灿;丁南声 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: G09G3/28 分类号: G09G3/28
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 杨凯,傅康
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 等离子体 显示 复位 提高 对比度 方法
【说明书】:

发明领域

本发明涉及一种将等离子体显示板复位的方法,更具体地说,涉及一种用于在开始时的单位子段(unit subfield)中将等离子体显示板复位的方法,所述方法使所有显示单元中的壁电荷都均匀分布,并使之适合于下一步骤中要执行的寻址,其中所述单位子段是3电极表面放电型等离子体显示板的最小驱动周期。

发明背景

图1显示了一种典型的3电极表面放电型等离子体显示板。图2显示了图1的显示板的显示单元的一个例子。参考图1和图2,在典型的表面放电等离子体显示板1中,在前玻璃基板10和后玻璃基板13之间配置了地址电极线A1,A2,…,Am-1和Am、前介质层11和后介质层15、Y电极线Y1,…,Yn、X电极线X1,…,Xn、荧光物质16、多个隔墙17、以及作为保护层12的一氧化镁(MgO)层。

在后玻璃基板13的正面以预定图案形成地址电极线A1,A2,…,Am-1和Am。在后玻璃基板13的正面形成地址电极线A1,A2,…,Am-1和Am的位置上涂覆后介质层15。在后介质层15的正面形成平行于地址电极线A1,A2,…,Am-1和Am的隔墙17。隔墙17将各个显示单元的放电区分段并防止相邻显示单元之间的串扰。在隔墙17之间的表面上涂覆荧光物质16。

在前玻璃基板10的后表面上形成垂直于地址电极线A1,A2,…,Am-1和Am的X电极线X1,…,Xn和Y电极线Y1,…,Yn。各个交叉点设定一个相应的显示单元。每根X电极线X1,…,Xn由图2的透明电极线Xna和图2的金属电极线Xnb构成以提高电导率,而其中透明电极线Xna又是由诸如ITO(氧化铟锡)的透明导电材料构成。每根Y电极线Y1,…,Yn由图2的透明电极线Yna和图2的金属电极线Ynb构成以提高电导率,而其中透明电极线Yna又是由诸如ITO(氧化铟锡)的透明导电材料构成。在前玻璃基板10的正面形成X电极线X1,…,Xn和Y电极线Y1,…,Yn的位置上涂覆前介质层11。在前介质层11的后表面上涂覆用于保护板1免受强电场影响的诸如MgO层的保护层12。等离子体产生气体被密封在放电空间14中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02122813.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top