[发明专利]滤色器、基板、电光装置、电子仪器、成膜方法和装置有效
申请号: | 02124377.8 | 申请日: | 2002-06-24 |
公开(公告)号: | CN1393704A | 公开(公告)日: | 2003-01-29 |
发明(设计)人: | 木口浩史;片上悟;伊藤达也;有贺久 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02F1/1335 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘宗杰,叶恺东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 滤色器 基板 电光 装置 电子仪器 方法 | ||
1.一种滤色器,其特征在于:具有包括遮光区域和由上述遮光区域分割的透过区域的像素区域、位于上述像素区域以外的着落精度试验用区域、设置在上述遮光区域的第1遮光层、设置在上述透过区域的色要素、设置在上述着落精度试验用区域的第2遮光层和用以至少覆盖上述第2遮光层而设置在上述着落精度试验用区域的着落精度试验用层,在上述着落精度试验用区域中,设置了由上述第2遮光层分割的评价区域。
2.按权利要求1所述的滤色器,其特征在于:构成上述像素区域的上述遮光区域进而包含存储层,上述存储层设置在设置于上述像素区域的上述第1遮光层上。
3.按权利要求1或2所述的滤色器,其特征在于:设置在上述着落精度试验用区域的上述第2遮光层具有与设置在上述像素区域的上述第1遮光层相同的图形。
4.按权利要求1~3的任一权项所述的滤色器,其特征在于:在上述着落精度试验用区域中,设置了游标层。
5.按权利要求4所述的滤色器,其特征在于:上述游标层设置在上述评价区域内的指定的位置。
6.按权利要求4或5所述的滤色器,其特征在于:上述游标层由与上述第2遮光层相同的材料构成。
7.按权利要求1~6的任一权项所述的滤色器,其特征在于:在设置在上述着落精度试验用区域的上述命中精度试验用层上,形成凸状层。
8.一种液滴材料着落精度的测定方法,其特征在于:使用权利要求1~6的任一权项所述的滤色器,在上述着落精度试验用区域中,使液滴材料着落到上述着落精度试验用层上,形成凸状层。
9.一种滤色器用液滴材料着落精度试验基板,其特征在于:具有包含遮光层和用以至少覆盖该遮光层而形成的着落精度试验用层的着落精度试验用区域,在上述着落精度试验用区域中,设置了由上述遮光层分割的评价区域。
10.按权利要求9所述的滤色器用液滴材料着落精度试验基板,其特征在于:进而设置了游标层。
11.按权利要求9或10所述的滤色器用液滴材料着落精度试验基板,其特征在于:上述游标层设置在上述评价区域内的指定的位置。
12.按权利要求10或11所述的滤色器用液滴材料着落精度试验基板,其特征在于:上述游标层由与上述遮光层相同的材料构成。
13.按权利要求9~12的任一权项所述的滤色器用液滴材料着落精度试验基板,其特征在于:在上述着落精度试验用层上形成凸状层。
14.一种液滴材料着落精度的测定方法,其特征在于:使用权利要求9~12的任一权项所述的滤色器用液滴材料着落精度试验基板,使液滴材料着落到上述着落精度试验用层上,形成凸状层。
15.一种滤色器的制造方法,其特征在于:包括
(a)通过在像素区域中形成具有指定的矩阵图形的第1遮光层而设置包含该第1遮光层的遮光区域的工序及通过在位于上述像素区域以外的着落精度试验用区域中形成具有指定的矩阵图形的第2遮光层而形成由该第2遮光层分割的评价区域的工序、
(b)在上述着落精度试验用区域中用以至少覆盖上述第2遮光层而形成着落精度试验用层的工序、
(c)在上述像素区域中,通过在色要素形成区域形成色要素而形成由上述遮光区域分割的透过区域的工序。
16.按权利要求15所述的滤色器的制造方法,其特征在于:上述工序(b)是在上述着落精度试验用区域形成上述着落精度试验用层的同时,在上述像素区域中在上述第1遮光层上形成存储层的工序。
17.按权利要求15或16所述的滤色器的制造方法,其特征在于:进而包括
(d)在上述着落精度试验用区域中,使液滴材料着落到上述着落精度试验用层上而形成凸状层的工序。
18.按权利要求15~17的任一权项所述的滤色器的制造方法,其特征在于:在上述工序(a)中,上述第1和第2遮光层是在基板上形成金属层之后,通过利用光刻法和腐蚀法将该金属层蚀刻成图形而形成的。
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