[发明专利]滤色片基板及其制造方法、液晶显示装置及电光装置

权利要求书

1.一种滤色片基板，其特征在于：

具有：

基体材料；

为了将该基体材料的表面划分成规定图形的色像元形成区域，而在该基体材料上按照规定高度形成的围堤状划分材料；

通过将液态色像元材料附加在上述色像元形成区域内形成的色像元；以及

通过将液态保护层材料附加在该色像元的表面上形成的保护层，

上述划分材料由具有与上述色像元材料及上述保护层材料相疏性质的树脂形成，

对上述划分材料的表面进行减少与上述保护层的液态材料的相疏性的表面处理。

2.如权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于：

上述划分材料由含有氟类树脂或硅类树脂的材料构成，

上述保护层由含有从由丙烯酸类树脂、环氧类树脂、亚胺类树脂及氟类树脂构成的组中选择的至少一种树脂的材料构成。

3.如权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于：

上述保护层材料的粘度为3～50mPa·s。

4.如权利要求2所述的滤色片基板，其特征在于：

上述保护层材料的粘度为3～50mPa·s。

5.如权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于：

上述表面处理包括氧(O₂)等离子体灰化、大气等离子体灰化或UV灰化。

6.如权利要求5所述的滤色片基板，其特征在于：

在上述保护层相对于上述基体材料的接触角在20°以下的条件下实施上述表面处理。

7.如权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于：

还有在上述基体材料的表面上按照规定图形形成的遮光层，

在上述遮光层的表面上形成上述划分材料。

8.如权利要求7所述的滤色片基板，其特征在于：

上述遮光层具有作为黑掩模的功能。

9.如权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于：

上述划分材料具有遮光性，该划分材料同时具有作为遮光层的功能。

10.如权利要求9所述的滤色片基板，其特征在于：

上述遮光层具有作为黑掩模的功能。

11.一种滤色片基板的制造方法，其特征在于：

包括为了将基体材料的表面划分成规定图形的色像元形成区域，而在该基体材料上按照规定高度形成的围堤状划分材料的工序；

将液态色像元材料附加在上述基体材料表面上的上述色像元形成区域内形成的色像元的工序；以及

通过将液态保护层材料附加在上述色像元的表面上形成保护层的工序，

上述划分材料由具有与上述色像元材料及上述保护层材料相疏性质的树脂形成，

对上述划分材料的表面进行减少与上述保护层材料的相疏性的表面处理。

12.如权利要求11所述的滤色片基板的制造方法，其特征在于：

作为上述划分材料使用含有氟类树脂或硅类树脂的材料，

作为上述保护层，使用含有从由丙烯酸类树脂、环氧类树脂、亚胺类树脂及氟类树脂构成的组中选择的至少一种树脂的材料。

13.如权利要求11所述的滤色片基板的制造方法，其特征在于：

上述保护层材料的粘度为3～50mPa·s。

14.如权利要求12所述的滤色片基板的制造方法，其特征在于：

上述保护层材料的粘度为3～50mPa·s。

15.如权利要求11所述的滤色片基板的制造方法，其特征在于：

上述表面处理包括基于氧(O₂)等离子体灰化、大气等离子体灰化或UV灰化的处理。

16.如权利要求15所述的滤色片基板的制造方法，其特征在于：

在上述保护层相对于上述基体材料的接触角为20°以下的条件下实施上述表面处理。

17.如权利要求11所述的滤色片基板的制造方法，其特征在于：

具有在上述基体材料的表面上形成规定图形的遮光层的工序，

在上述遮光层的表面上形成上述划分材料。